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半導體薄膜電子束蒸發鍍膜儀 參考價：350000
半導體薄膜電子束蒸發鍍膜儀，主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預處理等，尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料
桌面型熱蒸發鍍膜儀帶膜厚儀 參考價：90000
桌面型熱蒸發鍍膜儀帶膜厚儀為桌面型小型蒸發鍍膜儀，可提供*大100A的鍍膜電流，蒸發溫度可達1800℃，能夠滿足各種常見金屬及部分非金屬的蒸鍍。
近距離有機物蒸發鍍膜爐 參考價：90000
近距離有機物蒸發鍍膜爐是一種雙加熱區快速熱處理爐，具有11“外徑的石英管。它是專為PVD或CSS(近距離升華)薄膜涂層3英寸直徑或2“×2“。近距離蒸...
OLED有機無機蒸發鍍膜系統配手套箱 參考價：90000
OLED有機無機蒸發鍍膜系統配手套箱以金屬/有機源蒸發為主體，適用于實驗室制備金屬單質、氧化物、介電質、半導體膜等
卷繞式高真空蒸發鍍膜儀 參考價：90000
卷繞式高真空蒸發鍍膜儀可用于不同種類的材料的薄膜生長，大多數金屬和某些有機材料薄膜，如金屬、半導體、氧化物等
多源真空蒸發鍍膜儀 參考價：80000
多源真空蒸發鍍膜儀還適用于對氧敏感的金屬薄膜（如Ti、Al、Au等）的蒸鍍，也適用于各種氧化物材料的蒸鍍。
5英寸近源有機物蒸發鍍膜爐 參考價：70000
5英寸近源有機物蒸發鍍膜爐是一種雙加熱區快速熱處理爐，它是研究新一代太陽能電池薄膜的主要工具，如CdTe、硫化物和鈣鈦礦太陽能電池。
三源高真空熱蒸發鍍膜儀 參考價：60000
三源高真空熱蒸發鍍膜儀主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預處理等，尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片...
高真空電子束蒸發鍍膜儀 參考價：60000
高真空電子束蒸發鍍膜儀主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預處理等，尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片...
小型高真空雙源熱蒸發鍍膜儀 參考價：60000
小型高真空雙源熱蒸發鍍膜儀可提供100A的鍍膜電流，蒸發溫度可達1800℃，能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍。
高真空雙源熱蒸發鍍膜儀 參考價：50000
高真空雙源熱蒸發鍍膜儀適用于蒸發涂覆大多數金屬和某些有機材料薄膜。 該儀器可以穩定地蒸發金屬和某些有機物。 采用高真空不銹鋼腔體，密封性能好，真空性能好。
桌面型有機源蒸發鍍膜儀 參考價：50000
桌面型有機源蒸發鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發、氣態粒子的輸運以及在基底上的沉積成膜。在蒸發過程中，材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結合能，從而轉變為氣...
多源高真空蒸發鍍膜儀 參考價：250000
多源高真空蒸發鍍膜儀設備采用前開門式真空腔體設計，腔體空間大，可拓展性強，能夠滿足多樣式大尺寸樣品的蒸發鍍膜。腔體內配有上置樣品臺，可根據用戶樣品樣式選取夾持或...
桌面型石英腔體小型蒸發鍍膜儀 參考價：90000
本產品為桌面型石英腔體小型蒸發鍍膜儀，可提供100A的鍍膜電流，蒸發溫度可達1800℃，能夠滿足各種常見金屬及部分非金屬的蒸鍍
桌面型熱蒸發鍍膜儀帶膜厚儀 參考價：90000
桌面型熱蒸發鍍膜儀帶膜厚儀可提供100A的鍍膜電流，蒸發溫度可達1800℃，能夠滿足各種常見金屬及部分非金屬的蒸鍍
小型電動升降樣品臺蒸發鍍膜儀 參考價：90000
小型電動升降樣品臺蒸發鍍膜儀為桌面型小型蒸發鍍膜儀，設備安裝有鎢絲籃蒸發源，可提供*大100A的鍍膜電流，*大蒸發溫度可達1800℃，能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍...
多源真空蒸發鍍膜儀 參考價：250000
多源真空蒸發鍍膜儀還適用于對氧敏感的金屬薄膜（如Ti、Al、Au等）的蒸鍍，也適用于各種氧化物材料的蒸鍍
小型高真空雙源熱蒸發鍍膜儀 參考價：90000
小型高真空雙源熱蒸發鍍膜儀可提供100A的鍍膜電流，蒸發溫度可達1800℃，能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍。
桌面型有機源蒸發鍍膜儀 參考價：100000
桌面型有機源蒸發鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發、氣態粒子的輸運以及在基底上的沉積成膜。在蒸發過程中，材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結合能，從而轉變為氣...
高真空三源熱蒸發鍍膜儀 參考價：250000
高真空三源熱蒸發鍍膜儀應用領域：金屬和介電膜 ，薄膜傳感器的制造 ，光學元件 ，納米與微電子 ，太陽能電池等
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