簡單介紹：

桌面型熱蒸發鍍膜儀帶膜厚儀為桌面型小型蒸發鍍膜儀，可提供100A的鍍膜電流，蒸發溫度可達1800℃，能夠滿足各種常見金屬及部分非金屬的蒸鍍。

詳情介紹：

真空腔體采用高純石英制作，具有便于觀察鍍膜過程，易于清洗的優點；配合分子泵組可達到5x10-4Pa極限真空，能夠有效保證蒸鍍薄膜的純凈度和結合力。

• 材料科學研究：用于探索不同材料的薄膜生長特性、微觀結構以及物理化學性能等，如研究金屬、合金、半導體、陶瓷等材料在不同條件下形成的薄膜結構與性能的關系，幫助科研人員深入理解材料的本質特性，為新材料的研發提供基礎數據.

• 納米技術研究：可精確制備納米級厚度的薄膜，對于研究納米材料的量子尺寸效應、表面效應等特殊性質具有重要意義，有助于推動納米技術在電子、能源、生物等領域的應用.

• 物理化學實驗教學：作為高校和科研機構物理化學實驗教學的重要設備，幫助學生直觀地了解薄膜制備的原理和過程，掌握真空技術、熱蒸發技術、膜厚測量技術等相關實驗技能，培養學生的科研實踐能力和創新思維。

技術參數：