目錄:鄭州成越科學(xué)儀器有限公司>>熱蒸發(fā)鍍膜儀>> CY-EVH500-III-HHH-SS桌面型有機(jī)源蒸發(fā)鍍膜儀
| 參考價(jià) | ￥ 100000 |
| 訂貨量 | ≥1件 |
| ￥100000 |
| ≥1件 |
更新時(shí)間：2024-12-11 09:49:48瀏覽次數(shù)：63評(píng)價(jià)
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| 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 5萬(wàn)-10萬(wàn) |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,地礦,能源,建材/家具,鋼鐵/金屬 |
高純度薄膜：由于在高真空條件下進(jìn)行，減少了氣體分子與蒸發(fā)材料的碰撞，從而能夠制備出高純度的薄膜。
**控制：蒸發(fā)鍍膜技術(shù)允許對(duì)薄膜的厚度、成分和結(jié)構(gòu)進(jìn)行**控制，這在許多高精度應(yīng)用中至關(guān)重要。
適用多種材料：蒸發(fā)鍍膜技術(shù)可以用于多種材料，包括金屬、合金、氧化物、碳化物、氮化物以及有機(jī)材料等。
高沉積速率：特別是使用電子束蒸發(fā)時(shí)，由于高能量的電子束能夠快速加熱材料，可以實(shí)現(xiàn)高沉積速率。
均勻性：通過適當(dāng)?shù)墓に噮?shù)調(diào)整，可以在大面積基底上獲得均勻的薄膜。
低損傷：由于加熱主要集中在蒸發(fā)材料上，對(duì)基底的熱影響較小，適用于熱敏材料的薄膜沉積。
參數(shù)名稱 | 參數(shù)說明 | |
產(chǎn)品名稱 | 桌面型有機(jī)源蒸發(fā)鍍膜儀 | |
產(chǎn)品型號(hào) | CY-EVZ254-I-H-SS | |
真空腔體 | 腔體材質(zhì) | 304不銹鋼焊接而成，表面做拋光處理 |
取放模式 | 前開門方式取放樣品和蒸鍍材料 | |
觀察窗 | 直徑80mm真空窗口，配有磁力擋板，防止污染 | |
樣品臺(tái) | 樣品尺寸 | 直徑≦100mm的平面樣品均可 |
旋轉(zhuǎn)速度 | 分不旋轉(zhuǎn)和旋轉(zhuǎn)型（0-20RPM） | |
加熱溫度 | ≦1800℃ | |
蒸發(fā)系統(tǒng) | 蒸發(fā)源 | 鎢絲籃或塢舟 1個(gè) |
樣品臺(tái)蒸發(fā)源距離 | 60-100mm 可調(diào) | |
鍍膜方式 | 熱蒸發(fā)鍍膜 | |
真空系統(tǒng) | 抽氣接口：KF25/40, 排氣接口： KF16 | |
復(fù)合真空計(jì)，電阻規(guī)+電離規(guī) | ||
前級(jí)泵 | 旋片泵 抽速： 1.1L/S | |
分子泵 | 抽速： 62L/S (大阪分子泵) | |
膜厚測(cè)量 | 通常配CYKY膜厚測(cè)量?jī)x （可選） | |
也可選配進(jìn)口品牌，價(jià)格額外計(jì)算 | ||
供電電壓 | AC220V,50Hz | |
整機(jī)功率 | 2KW | |
外形尺寸 | 750mm X 450mm X750mm | |
包裝重量 | 70 KG | |
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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