簡單介紹：

多源真空蒸發鍍膜儀適用于對氧敏感的金屬薄膜（如Ti、Al、Au等）的蒸鍍，也適用于各種氧化物材料的蒸鍍。

詳情介紹：

本設備采用前開門式真空腔體設計，腔體空間大，可拓展性強，能夠滿足多樣式大尺寸樣品的蒸發鍍膜。腔體內配有上置樣品臺，可根據用戶樣品樣式選取夾持或卡位式樣品安裝部件。樣品臺可旋轉、加熱及升降，所有操作均通過觸控屏集成控制。設備的真空泵組為兩級式真空系統，由雙極旋片真空泵和渦輪分子泵組成，可為真空鍍膜試驗提供清潔無油的高真空的環境；真空系統內含有完善的氣動閥系統，用戶可通過觸控屏進行一鍵式操作實現抽取真空、不停機取放樣、停機等操作。

本設備的蒸發源共兩組，采取鎢舟蒸發源，水冷式銅電極，可支持300A的大電流，加熱溫度可達1800℃，可實現多種難熔金屬的蒸鍍。本設備采用一體化設計，腔體和電控部分左右分置，實現了水電分離。電控部分采用觸控屏和按鈕面板相結合的設計，真空系統、樣品臺等輔助功能通過觸控屏一鍵操作，通電蒸發、膜厚控制等通過面板獨立操作，在盡可能方便用戶的同時規避了誤操作的可能。

技術參數: