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雙溫區管式爐 參考價：面議
雙溫區管式爐采用高質量電爐絲作為加熱元件，加熱溫度可達1200℃，石英爐管管徑為50mm。若客戶有需要，可聯系技術人員定制更大管徑的爐管。雙溫區管式爐為雙溫區加...
滑道管式爐 參考價：面議
該滑道管式爐由爐體和軌道支架部分組成，同時可搭配進氣系統和真空裝置組成CVD系統?；拦苁綘t默認為600mm長的單溫區設計，可以形成較長的恒溫區域，也可定制為雙...
1200 °C高真空鎳基合金三溫區管式爐 參考價：面議
三溫區管式爐采用鎳基合金作為加熱元件，加熱溫度可達1200℃，石英爐管管徑為100mm。若客戶有需要，可聯系技術人員定制更大管徑的爐管。本三溫區管式爐為三溫區加...
帶磁力推桿雙溫區管式爐 參考價：面議
本雙溫區管式爐，配有磁力推桿，結構精巧可靠性高，可在保持爐管真空密閉的情況下對管內樣品進行位移操作。配合雙溫區分別控溫，可以實現用戶的多種熱處理工藝，是材料研究...
三溫區管式爐 參考價：面議
三溫區管式爐，爐膛*高溫度可達1200℃，采用進口電阻絲加熱，溫場均勻控溫**。爐管采用316不銹鋼制成，兩側使用定制法蘭配合水冷組件，可滿足客戶向管內通入液體...
感應熱重分析爐 參考價：面議
這是一個具有TGA熱重分析)功能的立式管式爐,*高溫度從1200°C到1600°C(可定制)。與傳統的TGA裝置相比,可裝載100 g以上的樣品,為工業生產提供...
1200℃10L高溫惰性箱式氣氛爐 參考價：面議
氣氛馬弗爐設計用于可控惰性氣體氣氛下的材料合成，*高溫度可達1200℃，溫度均勻性更好。采用上等氧化鋁纖維磚和進口電阻絲加熱元件，尺寸為200*200*200m...
1200℃單溫區3路浮子供氣高真空CVD系統 參考價：面議
1200℃單溫區3路浮子供氣高真空CVD系統由單溫區管式爐、三路浮子流量計和高真空分子泵組組成。管式爐由精密控溫儀表進行PID控溫，可編輯30段升降溫程序，同時...
1200℃單溫區3路質量供氣高真空CVD系統 參考價：面議
1200℃單溫區3路質量供氣高真空CVD系統由單溫區管式爐、三路質量流量計和高真空分子泵租組成。管式爐由精密控溫儀表進行PID控溫，可編輯30段升降溫程序，同時...
PECVD鍍膜儀 參考價：面議
CY-PECVD-450化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術，能夠利用高能量等離子體促進反應過程，有效提升反應速度，降低反應溫度。適用于在光學玻璃、硅...
單溫區旋轉PECVD石墨烯制備系統 參考價：面議
單溫區旋轉PECVD，安裝有真空自動投料器，爐管尾部預留KF40接口可以連接收料罐。投料器采用螺桿進料，可以以額定的速率將粉料送入爐管，投料速率可通過調節轉速來...
卷對卷式PECVD 參考價：面議
卷對卷式PECVD是等離子增強型化學氣相沉積設備（PECVD），并加裝了收放卷裝置。本設備可用于線材的連續化熱處理工藝中，如碳纖維制備、合金及其他材料線材改性處...
等離子增強CVD系統 參考價：面議
等離子增強CVD系統由等離子發生器，三溫區管式爐、單溫區管式爐、射頻電源、真空系統組成。等離子增強CVD系統為了使化學反應能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的...
等離子增強型CVD系統 參考價：面議
CY-PECVD50R-1200-Q是一款等離子增強型CVD系統。此系統由150W射頻電源、單溫區管式爐、3通道質子流量計控制系統、性能優異的真空泵組成。
桌面型二合一鍍膜儀 參考價：面議
本產品為二合一鍍膜儀，可用于電子產品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。尤其適合實驗室SEM（掃描電鏡）的樣品制備
1200℃雙溫區3路質量供氣高真空CVD系統 參考價：面議
1200℃雙溫區3路質量供氣高真空CVD系統由雙溫區管式爐、三路質量流量計和高真空分子泵組組成。管式爐兩個溫區分別由精密控溫儀表獨立控溫，通過調節各個溫區的溫度...
1200℃三溫區3路浮子供氣高真空CVD系統 參考價：面議
1200℃三溫區3路浮子供氣高真空CVD系統由三溫區管式爐、三路浮子流量計和高真空分子泵組組成。管式爐三個溫區分別由精密控溫儀表獨立控溫，通過調節各個溫區的溫度...
1200℃雙溫區3路浮子供氣高真空CVD系統 參考價：面議
1200℃雙溫區3路浮子供氣高真空CVD系統由雙溫區管式爐和三路浮子流量計組成。管式爐兩個溫區分別由精密控溫儀表獨立控溫，通過調節各個溫區的溫度，該管式爐可以在...
微波燒結爐 參考價：面議
該微波燒結爐可實現快速燒結，比傳統燒結大約要節省2/3的時間。該微波燒結爐是義齒加工****的理想產品。
小型二合一鍍膜儀 參考價：面議
等離子濺射和蒸發二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發組件，不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜，也可以用蒸發的方式得到碳或者其他金屬單質的薄膜。
小型高真空二合一鍍膜儀 參考價：面議
等離子濺射和蒸發二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發組件，不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜，也可以用蒸發的方式得到碳或者其他金屬單質的薄膜。
多功能鍍膜儀 參考價：面議
多功能鍍膜儀是我公司獨立研發的新型產品，既可進行等離子濺射法鍍膜，也可進行蒸發鍍膜。這款多功能鍍膜儀可以與分子泵或者旋片式真空泵連接以獲取不同的鍍膜環境，已被廣...
高真空多弧離子鍍膜儀 參考價：面議
CY- MIOP500 為高真空多弧離子鍍膜儀，制備多元非晶合金,制備金屬化合物，如氧化物和氮化物薄膜（氧氣或氮氣氛圍）,制備納米顆粒催化劑膜,用熱電材料靶材制...
實驗室多弧離子鍍鍍膜儀 參考價：面議
實驗室多弧離子鍍鍍膜儀是利用氣體放電或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用的同時，將蒸發物或反應物沉積在基片上，實驗室多弧離子鍍鍍膜儀十分適合...
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