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CY-MIOP500S-2TA多弧離子鍍鍍膜儀
多弧離子鍍是利用氣體放電或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用的同時，將蒸發物或反應物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現象、等離子體技術和真空蒸發三者有機結合起來，不僅能明顯地改進了膜質量，而且還擴大了薄膜的應用范圍。其具有蒸鍍速率快，薄膜附著力強，繞射性好，膜材廣泛等優點。十分適合鍍硬質保護膜如TiN等。同時由于其通過控制氣氛可以改變膜層顏色，且膜層與基板結合牢固，故也可用于制作多種顏色的裝飾性膜。
設計特色：
本設備配有兩個多弧靶，分置于腔體兩側。配合行星式樣品臺可有效的提高鍍膜效率，改善成效果，該鍍膜儀還采用一體化設計，腔體和電控部分左右分置，實現了水電分離，有力的保證了用戶的**。
技術參數：
| 產品型號 | CY-MIOP500S-2TA | ||
| 真空腔體 | 水冷不銹鋼腔體 φ500mm X 490mm（H） 前開門式，配有φ100mm石英觀察窗 內置兩組紅外加熱燈，可對腔體烘烤除氣 預留多個CF接口，可安裝多路膜厚儀 | ||
| 進氣系統 | 質量流量計Ar氣0~200sccm， N2氣0~200sccm其他流量或者氣體可定制 | ||
| 供電要求 | AC 220V 50Hz 10kW | ||
| 控制方式 | 15英寸觸控屏 組態控制軟件 | ||
| 多弧靶 | 數量規格 | 3英寸x2 | |
| 安裝方式 | 腔體側方對置 | ||
| 工作電流 | 0~150A | ||
| 靶材厚度 | max50mm，min20mm | ||
| 樣品臺 | 規格 | 行星式掛架 | |
| 可懸掛樣品數 | 每支掛架上6個掛點，共計6個掛架 | ||
| 轉速 | 公轉轉速1~20rpm | ||
| 真空系統
| 產品型號 | CY-GZK103-A | |
| 分子泵 | 渦輪分子泵 | ||
| 前極泵 | 雙極旋片泵 | ||
| 抽氣速率 | 分子泵：600L/S | 綜合抽氣性能：30分鐘真空度可達：5×10E-3Pa | |
| 旋片泵：1.1L/S | |||
| 極限真空 | 5×10E-4Pa | ||
| 抽氣接口 | KF40 | ||
| 排氣接口 | KF16 | ||
| 真空測量 | 復合真空計 | ||
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