雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：80000
雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室制備材料薄...
桌面型磁控濺射鍍膜儀下置靶槍 參考價：80000
桌面型磁控濺射鍍膜儀下置靶槍是一種物理氣相沉積設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù)，通過磁場增強離子化效率，從而實現(xiàn)...
分體式高真空雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：80000
分體式高真空雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點...
下置四靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：80000
下置四靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜
小型臺式單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：60000
小型臺式單靶磁控濺射鍍膜儀可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實驗室SEM樣品制備
粉體磁控濺射包覆機 參考價：50000
粉體磁控濺射包覆機是通過粉未在濺射腔室內(nèi)的旋轉(zhuǎn)，以達到粉未表面均勻包覆的效果。腔室可旋轉(zhuǎn)、傾斜，能快速出料。
單靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價：50000
單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
雙靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價：120000
雙靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗...
三靶向上磁控濺射鍍膜儀 參考價：250000
三靶向上磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該磁控...
光纖繞絲單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：200000
光纖繞絲單靶磁控濺射鍍膜儀是一種用于制備薄膜的設(shè)備。它可以在基板表面形成均勻、致密、薄且具有特定性質(zhì)的膜層
帶過渡艙三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：250000
本設(shè)備為帶過渡艙三靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實驗室SEM樣品制備
三靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價：250000
三靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該磁控...
粉末磁控濺射鍍膜儀 參考價：220000
粉末磁控濺射鍍膜儀是一種用于在基材表面沉積薄膜的設(shè)備，利用磁控濺射技術(shù)將粉末狀的靶材轉(zhuǎn)化為薄膜覆蓋在基材上
三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：350000
三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該磁控濺射...
桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：120000
桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀是一種物理氣相沉積設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù)，通過磁場增強離子化效率，從...
臥式高真空三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：250000
臥式高真空三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，...
高真空4英寸三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：350000
高真空4英寸三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點...
下置四靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：350000
下置四靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款...
桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：120000
桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實...
桌面型單靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價：120000
桌面型單靶直流磁控濺射鍍膜儀是一種物理氣相沉積設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù)，通過磁場增強離子化效率，從而實現(xiàn)...
分體式高真空三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：250000
分體式高真空三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點...
高真空三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：250000
高真空三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一...
雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：120000
雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室制...
桌面型磁控濺射鍍膜儀上置靶槍 參考價：120000
桌面型磁控濺射鍍膜儀上置靶槍是一種物理氣相沉積設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù)，通過磁場增強離子化效率，從而實現(xiàn)...
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