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目錄:鄭州成越科學儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> CY-MSZ254-I-DC-SS桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀

桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀

  • 桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀
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參考價 120000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協議為準
120000
≥1
具體成交價以合同協議為準
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 CY-MSZ254-I-DC-SS
  • 廠商性質 生產商
  • 所在地 鄭州市
屬性

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更新時間:2024-12-03 14:19:53瀏覽次數:80評價

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產地類別 國產 價格區間 5萬-10萬
應用領域 能源,電子/電池,鋼鐵/金屬,汽車及零部件,電氣 真空腔體 直徑≦100mm的平面樣品均可
樣品臺尺寸 直徑≦100mm的平面樣品均可 磁控靶 普通永磁靶,可調角度
靶材尺寸 直徑2英寸,厚度≦3mm, 濺射功率 300W
桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀是一種物理氣相沉積設備,廣泛應用于半導體、光電子、顯示技術和表面工程等領域。該設備采用磁控濺射技術,通過磁場增強離子化效率,從而實現高質量、均勻的薄膜沉積

本設備為單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用,也可實驗室SEM樣品制備。

本套配置采用高真空不銹鋼腔體,腔體設置帶擋板的石英觀察窗,便于實驗的觀察記錄;腔體設計真空性能優良,造型小巧,十分適合實驗室使用。同時設備配有旋轉加熱樣品臺,可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質量。整機采用模塊化設計,操作邏輯簡單,操作界面直觀,利于上手。

技術參數:

產品名稱

桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀

產品型號

CY-MSZ254-I-DC-SS

樣品臺

外形尺寸

φ100mm

加熱溫度

≦500℃

可調轉速

≦20rpm

磁控靶槍

配一支兩英寸磁控靶,靶材尺寸:直徑50.8mm,厚度≦3mm

真空腔體

腔體尺寸

φ254mm X 300mm

觀察窗口

前置式

腔體材料

304不銹鋼

開啟方式

上蓋拆卸式與前開啟式

真空系統

前級泵

低噪音雙極旋片泵

分子泵

低噪音大抽速渦輪分子泵

真空測量

復合真空計,量程:10-5~105Pa

抽氣接口

KF16

抽氣接口

KF40

排氣接口

KF16

系統真空

1.0×10-4Pa

供電電源

AC 220V 50/60Hz

抽氣速率

分子泵抽速600L/s,前級抽速1.1L/s 

電源配置

電源數量

直流電源一套

輸出功率

直流電源300W

其他參數

供電電壓

AC220V,50Hz

整機功率

2kW

整機尺寸

550mm X 350mm X450mm

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