目錄:鄭州成越科學儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> CY-MSH325X-III-DCDCRF-SS三靶向上磁控濺射鍍膜儀
| 產地類別 | 國產 | 價格區間 | 10萬-30萬 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 能源,電子/電池,鋼鐵/金屬,汽車及零部件,電氣 | 真空腔體 | 直徑≦100mm的平面樣品均可 |
| 樣品臺尺寸 | 直徑≦100mm的平面樣品均可 | 磁控靶 | 普通永磁靶，可調角度 |
| 靶材尺寸 | 直徑2英寸，厚度≦3mm, | 濺射功率 | 500W |
三靶向上磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的高性價比磁控濺鍍設備，具有標準化、模塊化、定制化的特點。該設備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介電薄膜、光學薄膜、氧化膜、硬薄膜、聚四氟乙烯薄膜等，三種靶材可以滿足多層或多層涂層的需要。與同類設備相比，三靶磁控濺射鍍膜儀不僅應用廣泛，而且具有體積小、操作方便等優點。它是實驗室制備材料薄膜的理想設備.
項目 | 明細 | |
產品型號 | CY-MSH325X-DCDCRF-SS | |
供電電壓 | AC220V，50Hz | |
整機功率 | 6KW | |
系統真空 | ≦5×10-4Pa | |
樣品臺 | 外形尺寸 | φ150mm |
加熱溫度 | ≦750℃ | |
控溫精度 | ±1℃ | |
可調轉速 | ≦20rpm | |
磁控靶槍 | 靶材尺寸 | 直徑Φ50.8mm，厚度≦3mm |
冷卻模式 | 循環水冷 | |
水流大小 | 不小于10L/Min | |
靶槍數量 | 3 | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | 直徑φ325mm，高度600mm |
腔體材質 | SUU304不銹鋼 | |
觀察窗口 | 直徑φ100mm | |
開啟方式 | 前面開啟 | |
氣體控制 | 1路質量流量計用于控制Ar流量，量程為:200SCCM | |
真空系統 | 配分子泵系統1套，氣體抽速600L/S | |
膜厚測量 | 可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ? | |
濺射電源 | 直流電源功率500W*2，射頻電源功率300Ｗ | |
控制系統 | CYKY自研專業級控制系統 | |
真空計 | 電阻規真空計 | |
設備尺寸 | 1090mm×900mm×1250mm | |
設備重量 | 350kg | |
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