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當前位置:北京亞科晨旭科技有限公司>>微納加工平臺-圖形發生>>光刻/鍵合系統>> EVG Bond AlignmentEVG 610BA 鍵對準系統

EVG 610BA 鍵對準系統

參  考  價面議
具體成交價以合同協議為準

產品型號EVG Bond Alignment

品       牌其他品牌

廠商性質生產商

所  在  地北京市

更新時間:2024-09-25 16:35:44瀏覽次數:1078次

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產地類別 進口 應用領域 電子/電池
適用于學術界和工業研究的晶圓對晶圓對準的手動鍵對準系統

EVG 610 BA  Bond Alignment System

EVG 610BA   鍵對準系統

 

適用于學術界和工業研究的晶圓對晶圓對準的手動鍵對準系統

 

EVG610鍵合對準系統設計用于zui200 mm晶片尺寸的晶片間對準。 EV Group的粘結對準系統可通過底側顯微鏡提供手動高精度對準平臺。 EVG的鍵對準系統的精度可滿足MEMS生產和3D集成應用等新興領域中zui苛刻的對準過程。

 

 

特征

zui適合EVG 501EVG 510粘合系統

晶圓和基板尺寸zui大為150/200 mm

手動高精度對準臺

手動底面顯微鏡

基于Windows 的用戶界面 的多用戶概念(無限數量的用戶帳戶,各種訪問權限,不同的用戶界面語言;桌面系統設計,占用空間zui小;支持紅外對準過程;研發和中試生產線的zui佳總擁有成本(TCO

 

 

 

EVG610 BA技術數據

常規系統配置:

桌面

系統機架:可選

隔振:被動

對準方法

背面對齊:±2 µm 3σ  透明對準:±1 µm 3σ

紅外校準:選件

對準階段

精密千分尺:手動;       可選:電動千分尺

楔形補償:自動

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