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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
詳細(xì)介紹
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：TFMS-IV系列緊湊型高精度反射膜厚儀，利用光學(xué)干涉原理，通過(guò)分析薄膜表面反射光和薄膜與基底界面反射光相干涉形成的反射譜，快速準(zhǔn)確測(cè)量薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)等信息。反射膜厚儀廣泛應(yīng)用于各種介質(zhì)保護(hù)膜、有機(jī)薄膜、無(wú)機(jī)薄膜、金屬膜、涂層等薄膜測(cè)量。
產(chǎn)品型號(hào) | TFMS-IV系列緊湊型高精度反射膜厚儀 | ||
主要特點(diǎn) | 1、光學(xué)薄膜測(cè)量解決方案 2、非接觸、非破壞測(cè)量 3、覆蓋單層到多層薄膜 4、核心算法覆蓋薄膜到厚膜 5、配置靈活、支持定制化 6、采用高強(qiáng)度鹵素?zé)艄庠矗庾V覆蓋可見(jiàn)光到近紅外范圍 7、采用光機(jī)電高度整合一體化設(shè)計(jì)，體積小，操作簡(jiǎn)便 8、基于薄膜層上界面與下界面的反射光相干涉原理，輕松解析單層薄膜到多層 9、配置強(qiáng)大核心分析算法：FFT分析厚膜、曲線擬合分析法分析薄膜的物理參數(shù)信息 | ||
技術(shù)參數(shù) | 型號(hào) | TFMS-IV | TFMS-IV（可選） |
基本功能 | 獲取薄膜厚度值以及R、N/K（可選）等光譜 | ||
光譜波長(zhǎng)范圍 | 380-800nm | 650-1100nm（可選） | |
測(cè)量厚度范圍 | 50nm-20um | 100nm-200um（可選） | |
測(cè)量時(shí)間 | <1s | ||
光斑尺寸 | 0.5-3mm | ||
重復(fù)精度 | 0.1nm（100nmSiO2/Si） | ||
精度 | ±1nm or 0.5% | ||
入射角方式 | 垂直入射 | ||
可選配件 | 1 | 溫控臺(tái) | |
2 | Mapping擴(kuò)展模塊 | ||
3 | 真空泵 | ||