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薄膜厚度測量系統(tǒng)TF200

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更新時(shí)間:2024-03-07 20:50:46瀏覽次數(shù):589

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產(chǎn)品簡介

產(chǎn)品簡介:TF200薄膜厚度測量系統(tǒng)利用薄膜干涉光學(xué)原理,對薄膜進(jìn)行厚度測量及分析

詳細(xì)介紹

 

 

 

 

 

 

img3

產(chǎn)品簡介:TF200 薄膜厚度測量系統(tǒng)利用薄膜干涉光學(xué)原理,對薄膜進(jìn)行厚度測量及分析。用從深紫外到近紅外可選配的寬光譜光源照射薄膜表面,探頭同位接收反射光線。TF200  膜厚度測量系統(tǒng)根據(jù)反射回來的干涉光,用反復(fù)校準(zhǔn)的算法快速反演計(jì)算出薄膜的厚度。測量范圍 1nm-3mm,可同時(shí)完成多層膜厚的測試。對于 100nm 以上的薄膜,還可以測量n  k 值。

 

 

產(chǎn)品名稱

TF200 薄膜厚度測量系統(tǒng)

產(chǎn)品型號

TF200-VIS

TF200-EXR

TF200-DUV

TF200-XNIR

主要特點(diǎn)

快速、準(zhǔn)確、無損、靈活、易用、性價(jià)比高

 

 

 

應(yīng)用領(lǐng)域

半導(dǎo)體(SiO2/SiNx、光刻膠、 MEMS SOI 等)

LCD/TFT/PDP(液晶盒厚、 聚亞酰胺 ITO )

LED (SiO2 、光刻膠 ITO 等)

觸摸屏(ITO AR Coating 反射/穿透率測試等)

汽車(防霧層、 Hard Coating DLC 等)

 

醫(yī)學(xué)(聚對二甲苯涂層球囊/壁厚藥膜等)

波長范圍

380-1050nm

380-1700nm

190-1100nm

900-1700nm

厚度范圍

50nm-40um

50nm-300um

1nm-30um

10um-3mm

準(zhǔn)確度(取決于材 0.4% 2nm 之間 取較大者)

 

2nm

 

2nm

 

1nm

 

10nm

精度

0.2nm

0.2nm

0.2nm

3nm

入射角

90°

90°

90°

90°

樣品材料

透明或半透明

透明或半透明

透明或半透明

透明或半透明

測量模式

反射/透射

反射/透射

反射/透射

反射/透射

光斑尺寸(可選微 光斑附件。)

2mm

2mm

2mm

2mm

是否能在線

掃描選擇

XY 可選

XY 可選

XY 可選

XY 可選

 

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