目錄:鄭州成越科學(xué)儀器有限公司>>PECVD氣相沉積系統(tǒng)>> CY-PECVD-500T-SSPECVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
| 參考價(jià) | 面議 |
| 參考價(jià) | 面議 |
更新時(shí)間：2025-07-30 18:42:48瀏覽次數(shù)：54評(píng)價(jià)
聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說(shuō)明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息，謝謝!
PECVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)采用等離子體增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積技術(shù)，能夠利用高能量等離子體促進(jìn)反應(yīng)過(guò)程，有效提升反應(yīng)速度，降低反應(yīng)溫度。適用于在光學(xué)玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜，成膜質(zhì)量好，針孔較少，不易龜裂，適用于制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽(yáng)電池器件，可廣泛應(yīng)用于大專(zhuān)院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。
PECVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)：
| 產(chǎn)品名稱(chēng) | PECVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) | |
| 產(chǎn)品型號(hào) | CY-PECVD-500T-SS | |
| 供電電源 | AC220V 50Hz | |
| 射頻電源 | 信號(hào)頻率 | 13.56MHz |
| 功率輸出范圍 | 0~300W | |
| *大反射功率 | 100W | |
| 反射功率 (在*大功率時(shí)) | <5W | |
| 功率穩(wěn)定性 | ±0.1% | |
| 工作腔體 | 加熱溫度 | RT-400℃ |
| 溫控精度 | ±1℃ | |
| 樣品臺(tái)尺寸 | Φ200mm | |
| 樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速 | 1-20rpm 可調(diào) | |
| 噴頭尺寸 | Φ200mm | |
| 距離 | 噴頭與樣品之間的距離40-100mm連續(xù)可調(diào) | |
| 沉積工作真空 | 0. 133- 133Pa （可根據(jù)工藝調(diào)整） | |
| 法蘭 | 上翻蓋設(shè)計(jì)，基材易更換，并有可視窗口 | |
| 腔體 | 不銹鋼材質(zhì), Φ500mm * 500mm | |
| 觀察窗 | Φ40mm | |
| 供氣系統(tǒng) | 通道數(shù) | 定制 |
| 測(cè)量單位 | 質(zhì)量流量計(jì) | |
| 測(cè)量范圍 | A 通道: 0～200SCCM for H2 | |
| B 通道: 0～200SCCM for CH4 | ||
| C 通道: 0～200SCCM for C2H4 | ||
| D通道: 0～500SCCM for N2 | ||
| E通道: 0～500SCCM for NH3 | ||
| F通道: 0～500SCCM for Ar | ||
| 測(cè)量精度 | ±1.5%F.S | |
| 工作壓差 | -0.15Mpa~0.15Mpa | |
| 連接管材質(zhì) | 304 不銹鋼 | |
| 氣路 | 304 不銹鋼針閥 | |
| 進(jìn)氣和出氣接口規(guī)格 | 1/4" 卡套接頭 | |
| 真空系統(tǒng) | 前級(jí)泵抽速 | 4.7L/s |
| 分子泵抽速 | 60L/s | |
| 真空測(cè)量 | 復(fù)合真空計(jì), 范圍10-5Pa ~ 105Pa | |
| 真空度 | 5.0*10-3Pa | |
| 水冷機(jī) | 冷卻水溫度 | ≦37℃ |
| 水流速 | 10L/min | |
| 功率 | 0.1KW | |
| 冷卻功率 | 50W/℃ | |
| 空壓機(jī) | OTS-550 |
|
| 產(chǎn)品尺寸 | 1362*736*1434 | |
| 產(chǎn)品重量 | 280公斤 | |
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
會(huì)員.png)
1
化工儀器網(wǎng)