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當前位置：> 供求商機> ELS-F125-Elionix電子束光刻機
簡介
ELS-F125是Elionix推出加速電壓高達125KV的電子束曝光系統之一，其可加工線寬下限為5nm的精細圖形。(以下參數基于ELS-F125)
ELS-F125具有以下優點：
l 超高書寫精度
- 5 nm 線寬精度 @ 125 kV
- 1.7 nm 電子束直徑&鄰近效應最小化 @ 125 kV
l 高通量、均勻性好
- 超大視野書寫:500um視場下10 nm線寬
- 高束流下電子束直徑依然很小，高通量而不影響分辨率，2 nm 電子束直徑@ 1 nA
l 界面用戶友好
基于Windows系統的CAD和SEM界面:
-簡單易用的圖案設計功能
-易于控制的電子束條件
二、主要功能
l 主要應用
納米器件的微結構
集成光學器件，如光柵，光子晶體等
NEMS結構，復雜精細結構
光刻掩模板，壓印模板
l 技術能力
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