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EIS-200ERP是由ELIONIX研發的離子束刻蝕機，緊湊和高性能，使用 ECR 離子束可以進行納米蝕刻和沉積，制品特微。

EIS-1500是由ELIONIX研發的108mm的大直徑光束，通過充分利用光束面內分布監控功能，可以實現各向異性干法蝕刻的離子束刻蝕機

SENTECH SI 591 緊湊型 RIE 等離子蝕刻系統具有負載鎖定功能，是氯基和氟基 RIE 的緊湊型解決方案。

SENTECH 集群系統包括等離子體蝕刻和/或沉積模塊、一個轉移室和一個真空負載鎖或盒式站。包括搬運機器人在內的轉移室有三到六個端口。最多可以使用兩個盒式磁帶站...

SENTECH SI 500 CCP 系統使用動態溫度控制和氦背冷卻，代表了材料蝕刻靈活性的優勢。等離子體蝕刻過程中的襯底溫度設置和穩定性是高質量蝕刻的嚴格標準...