目錄:鄭州成越科學儀器有限公司>>電子束，激光鍍膜儀>> CY-EVP500-EB電子束蒸發鍍膜
設備技術參數
| 使用條件 | 環境溫度5℃～40℃ 電源：三相380 V,功率：≤20 KW，水壓：≤2.5bar | |
| 真空室尺寸 | 蒸發室尺寸：φ500×H500(㎜) | |
| 電子槍 | 新型電子槍1套，6穴坩堝 | |
| 樣品轉盤 | 樣品尺寸：≤φ150mm，樣品可旋轉，也可上下升降調節樣品到電子槍距離(樣品托形狀按用戶要求設計),加熱溫度≤500℃ | |
| 系統真空度 | 極限真空 | 經12～24小時烘烤，連續抽氣≤5x10-5Pa |
| 抽氣速率 | 從大氣開始40分鐘內真空度≤5x10-4Pa | |
| 系統漏率 | 整機漏率≤1×10-8Pa.L/s 停泵關機12小時后，測量真空室真空度≤10Pa | |
| 抽真空系統 | FB1200分子泵+機械泵(TRP-36)系統，并設置旁路抽氣 | |
| 鍍膜監測 | 采用SQM160膜厚儀進行監測 | |
| 鍍膜厚度 | 鍍膜厚度的不均勻度≤6% | |
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