目錄:鄭州成越科學儀器有限公司>>電子束，激光鍍膜儀>> CY-EB電子束蒸發鍍膜儀
電子束蒸發鍍膜儀設備用途：
用于制備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等，廣泛應用于大專院校、科研機構的科研及小批量生產。
電子束蒸發鍍膜儀技術參數：
| 結構形式 | 真空室采用U型箱體前開門，后置抽氣系統 | |
| 真空室 | 500×500×600mm2 | |
| 真空系統配置 | 復合分子泵、機械泵、閘板閥 | |
| 極限壓力 | ≤6. 67×10-5Pa (經烘烤除氣后）； | |
| 恢復真空時間 | 45分鐘可達到6. 67×10-4Pa (系統短時間暴露大氣并充干燥 氮氣后） | |
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電子束 蒸發源 | e型電子槍 | 陽極電壓：6kv、8kv; |
| 數量（套） | 1 | |
| 坩堝 | 水冷式坩堝，四穴設計，每個容量11ml | |
| 功率 | 0一6 KW可調 | |
| 電阻蒸發源 (可選） | 電壓 | 5、10V |
| 功率 | 電流300A，*大輸出功率3KW | |
| 數量 | 1套，可切換 | |
| 水冷電極 | 3根，組成2個蒸發舟 | |
| 工件架類型及尺寸 | 基片尺寸：可放置4"基片，加熱zui高溫度800℃±1℃ ,基片可連續回轉，轉速5~60轉/分 基片與蒸發源之間距離300~350mm可調，手動控制樣品擋板組件1套 | |
| 氣路系統 | 200SCCM質量流量控制器1路 | |
| 石英晶振膜厚控制儀 | 監測膜厚顯示范圍：0~99 u 9999A; | |
| 設備占地面積 | 主機 | 900×800mm2 |
| 電控柜 | 800×800mm2 (兩個） | |
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