目錄:鄭州成越科學儀器有限公司>>多弧離子鍍膜儀>> CY-MIOP400S-2TA多弧離子鍍膜儀
功能特點：
離子鍍把輝光放電現象、等離子體技術和真空蒸發三者有機結合起來，不僅能明顯地改進了膜質量，而且還擴大了薄膜的應用范圍。其具有蒸鍍速率快，薄膜附著力強，繞射性好，膜材廣泛等優點。十分適合鍍硬質保護膜如TiN等。同時由于其通過控制氣氛可以改變膜層顏色，且膜層與基板結合牢固，故也可用于制作多種顏色的裝飾性膜。
多弧離子鍍膜儀 樣品臺 尺寸 行星式樣品臺，外徑305mm，四周六工位 工件可懸掛于各工位的支撐棒上 外周轉速1~20rpm可調 多弧離子靶 數量 φ84mm X 2 真空腔體 腔體尺寸 φ300mm X 400mm 觀察窗口 前置φ100mm含遮光片 腔體材料 304不銹鋼 開啟方式 前開門式 膜厚控制 晶振式膜厚測量儀，可選多通道膜厚控制儀 真空系統 前級泵 雙極旋片泵 抽氣接口 KF16 次級泵 渦輪分子泵 抽氣接口 CF160 真空測量 電阻+電離 復合真空規 排氣速率 機械泵1.1L/s 分子泵 600L/s 極限真空 1.0E-5Pa 供電電源 AC 220V 50/60Hz 抽氣速率 旋片泵：1.1L/S 控制系統 自動控制 操作界面：觸控屏+操作面板 其他 供電電壓 AC380V,50Hz 整機尺寸 1000mm X 800mm X 1500mm 整機重量 350kg 整機功率 5kW
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