目錄:鄭州成越科學儀器有限公司>>培育鉆石>> CY-MPCVDCVD培育鉆石設備
CVD培育鉆石是一種由直徑10到30納米鉆石晶體合成的多結晶鉆石,它的化學成分為碳,運用的設備模擬大自然中鉆石生長環境,通過化學氣象沉積技術(CVD)栽種而成.
MPCVD單晶金剛石沉積設備
適合的應用:
化學氣相沉積法制備高品質單晶金剛石
化學氣相沉積法制備高品質多晶金剛石自支撐厚膜
化學氣相沉積法制備高品質多晶金剛石薄膜
化學氣相沉積法制備石墨烯、碳納米管、富勒烯和金剛石膜等各種碳納米薄膜
產品特點:
本產品為不銹鋼腔體式6kw微波等離子體設備,功率密度高;
水冷式基片臺和水冷式金屬反映腔,保證系統能長時間穩定工作;
基片溫度以微波等離子體自加熱方式達到;
真空測量儀表采用全量程真空計,可**測量本底真空和工作氣體壓強;
真空泵及閥門采用渦輪分子泵(極限真空為1×10-5Pa)和旋片式機械真空泵(極限真空為1Pa),系統可自動控制沉積氣壓;
配備冷卻水循環系統,確保裝置高功率下可長時間**穩定運行;
系統帶15寸觸摸屏,PLC自動控制,可設置溫度或氣壓恒定,可保存復用多達20套工藝文件;
全自動工藝控制模塊,可以穩定可靠地制備高品質金剛石薄膜和晶體
技術指標與特性:
微波系統(法國Sairem 微波源) | 微波頻率 | 2450±25MHz |
輸出功率 | 0.6kw~6kw 連續可調 | |
微波調諧 | 三銷釘調配器,模式轉換天線 | |
微波反射保護 | 環形器,水負載 | |
微波工作模式 | TM013 | |
微波泄漏 | ≤ 2 mw/cm2 | |
真空系統 | 工作氣壓范圍 | 10~250Torr |
自動穩壓范圍 | 40~250Torr | |
真空泵 | 4.4L/s 旋片式真空泵 | |
系統漏率 | <1.0x10-9 Pa?m3 /秒 (通過氦質譜檢漏儀檢測) | |
腔體保壓能力 | 每24 小時壓升小于0.2 乇 | |
本底極限真空 | 0.1Pa(7.5 x10-4 Torr) | |
真空測量 | 品牌薄膜規 | |
真空反應腔 | 反應腔材料及結構 | 雙層水冷不銹鋼反應腔 |
真空密封 | 金屬密封+氟膠圈密封(取樣門) | |
反應腔內徑 | 直徑140mm | |
樣品臺窗口 | 105x50mm 長方形端口,帶O 形氟橡膠圈密封的前門 | |
觀察窗口 | 兩個端口,CF35 大口徑,180°分布 | |
測溫窗口 | 兩個窗口水平角度25~30°,180°分布;窗口方便從反應腔上部的 斜角向下檢測樣品臺的溫度 | |
樣品臺 | 電動升降式水冷基片臺 直徑100mm,高度可調范圍0~70mm | |
鉬基片臺直徑≥50mm,在5000w, 180Torr 工作狀態,等離子體火球可覆蓋 整個基片臺 | ||
基片臺溫度 250~1400℃(取決于工藝參數) | ||
氣路 | 選用日本進口流量計及流量控制閥 | |
系統自帶四路MFC | ||
四路MFC *大流速:H2: 1000sccm,CH4:100sccm,O2:20sccm,N2:2sccm | ||
測溫系統 | 德國Raytek 紅外測溫系統,測溫范圍:300~1300 攝氏度 | |
系統軟件 | 配置PLC 控制的15“觸摸顯示屏,用戶操作界面友好,所有操作均可在觸摸 屏上完成 | |
系統支持工程師和操作員兩個用戶級別,提供用戶權限管理功能 | ||
系統自帶缺水,缺氣,電源缺相,火球跳變,過溫過載,打火等自動保護 | ||
可設置多達10 套工藝配方,每套配方有40 行數據,生產流程通過工藝配方自 動控制,工藝數據可通過U 盤備份導出 | ||
系統自帶全自動抽氣,點火,升溫,降溫等預設流程,用戶操作簡便 | ||
全自動溫度控制,氣壓控制,極大減輕系統操作員的工作量 |