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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>濕法工藝設備>濕法清洗設備> 手動清洗機

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手動清洗機

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芯矽科技是一家專注半導體濕法設備制造公司,主要提供實驗室研發級到全自動量產級槽式清洗機,單片清洗機,高純化學品/研磨液供應回收系統及工程,公司核心產品12寸全自動晶圓化學鍍設備,12寸全自動爐管/ Boat /石英清洗機已占據行業主導地位,已經成功取得長江存儲,中芯國際,重慶華潤,上海華虹,上海積塔,上海格科,廣東粵芯,青島芯恩,廈門士蘭,南通捷捷,湖南楚微等主流8寸12寸Fab產線訂單,我們致力于為合作伙伴提供適合你的解決方案。


導體濕法設備

非標定制 根據客戶需求定制

手動清洗機是一種通過人工操作結合化學或物理清洗技術(如噴淋、超聲波、刷洗等)實現精密部件去污的設備,廣泛應用于實驗室儀器、醫療器械、半導體晶圓、光學鏡片及小型工業零部件的清潔。其核心優勢在于靈活性高、成本低,可針對復雜或敏感器件進行定制化處理,適合小批量、多品種的清洗需求。

核心功能與技術特點

清洗模式多樣化

化學浸泡:配套酸性/堿性清洗液(如IPA、丙酮、專用去膠劑),溶解有機物、金屬顆粒及光刻膠殘留。

超聲波輔助:高頻振動(20~80kHz)產生空化效應,清除深孔、盲槽內的納米級顆粒(>0.1μm),提升潔凈度。

噴淋沖洗:多角度噴頭均勻布液,快速沖走污染物,減少二次污染風險。

精準控制與安全性

溫度調節:恒溫加熱模塊(20~80℃)優化清洗效率,避免高溫損傷精密器件(如PCB、光學玻璃)。

防護設計:耐腐蝕材質(PFA、PTFE)腔體,防泄漏密封圈,配備手套操作口及廢液收集槽,確保操作安全。

適用場景廣泛

實驗室:清洗玻璃器皿、金屬實驗工具、微流控芯片等,兼容強酸強堿及有機溶劑。

半導體/光電:去除晶圓切割后的磨粒、光刻膠殘留,或修復輕微缺陷前的局部清潔。

醫療領域:符合ISO 13485標準,用于手術器械、牙科工具的滅菌前預處理,支持高溫蒸汽消毒。

關鍵技術參數

清洗容量:單次處理≤1000ml液體或小型部件(如≤6英寸晶圓、20個醫用鉗)。

超聲波功率:可調范圍(0~500W),適配不同污染物強度。

時間控制:手動計時或集成定時器(0~99分鐘),支持多階段清洗流程。

過濾系統:可選配0.2~1μm濾網,攔截顆粒雜質,延長清洗液壽命。

外形設計:緊湊型臺式結構(尺寸約400×300×300mm),便于實驗室或車間靈活部署。

操作流程與優勢

典型步驟

注入清洗液→設定溫度/超聲參數→手動翻動/輕刷部件→噴淋沖洗→吹干或烘干。

支持分段清洗(如先除油后除銹),滿足復雜污染需求。

核心價值

成本高效:無需自動化產線投入,適合研發階段或低頻次清洗需求。

靈活性:可快速切換清洗液或工藝參數,適應不同材料(金屬、陶瓷、塑料)和污染類型(油污、氧化層、生物殘留)。

潔凈度保障:顆粒去除率>95%,殘留污染<5μg/cm2(依據ISO 16232標準)。

手動清洗機

手動清洗機憑借其操作簡單、適用性廣的特點,成為精密部件清潔的工具。無論是實驗室科研、醫療器械處理還是半導體小批量維修,其化學-物理結合的清洗方式均可有效去除頑固污染物,同時避免自動化設備對脆弱樣品的機械損傷。未來可通過模塊化升級(如添加紫外線消毒、真空干燥功能)進一步拓展應用場景,滿足高精度、高潔凈度的需求。



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