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μMLA-德國海德堡無掩模光刻機

2025-07-26

產      地:
暫無
所在地區:
上海上海市
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臺式 μMLA 系統是優良的無模板技術,建立在的 μPG 平臺之上,該平臺是全球高的臺式無模板系統。它是一款入門研發(R&D)工具,幾乎適用于任何需要微結構的應用。典型的例子有微流控(細胞分選裝置、芯片實驗室)、小規模掩模寫入、微光學和微透鏡陣列、傳感器、MEMS、接觸式二維材料和扇出電等。

μMLA是一種靈活且可定制的工具,并提供兩種曝光模式。標準μMLA使用光柵掃描曝光模式進行曝光,該模式速度快,可提供出色的圖像質量和保真度,而寫入時間與圖案密度的結構大小無關。可選的矢量掃描模式旨在以更快、更準確的方式對連續平滑的曲線(如波導)進行圖案化。三種光學設置提供了可變分辨率和吞吐量的選擇。每種配置都允許在不同的分辨率和速度配置之間輕松切換,以優化給定應用的曝光。拉伸模式可以對現有結構進行直接的臨時修改,并可以與納米線或 2D 材料進行電接觸。灰度曝光模式允許創建復雜的 2.5 結構,例如微光學設備。μMLA占地面積小,可放在普通桌子上。



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