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半導體行業以硅等半導體材料為基礎，涵蓋集成電路、光電器件等領域，其中集成電路占比超 80%。該行業對超純水需求嚴苛，水質直接影響生產質量與性能，超純水監測成為關鍵環節。

當前半導體超純水標準遠超國標電子水最高要求，核心指標包括：電阻率需達 18.2 兆歐（25℃）以上，確保離子含量極低；TOC（總有機碳）控制在 0.5ppb 以下，避免影響光刻精度；大于 0.05 微米的顆粒物每升不超 100 個；溶解氧需低于 1ppb，防止金屬離子氧化。

超純水應用于晶圓沖洗、光刻工藝、刻蝕冷卻、機械拋光等全生產流程，還用于設備冷卻及實驗室研發。監測方法上，微粒子用液體粒子計數器檢測，TOC、電阻率、溶解氧等通過在線電化學儀器實時監測，結合集成系統實現水質動態管理。

監測周期依生產需求和水質變化而定，需定期采樣分析。超純水由自來水經 ACF、UF、RO、EDI 等多級處理，再通過 TOC-UV 燈裝置將 TOC 降至 1ppb 以下。

隨著半導體元器件尺寸縮小和精度提升，水質要求不斷提高。行業正通過提升檢測精度、應用遠程監控等新技術，應對更嚴苛的挑戰，以降低因水質問題導致的生產損耗，保障產品良率。