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晶圓烘箱是半導體制造中用于晶圓熱處理的關鍵設備，其核心功能是通過準確控溫實現光刻膠固化、干燥及防氧化處理，直接影響半導體器件的良品率與性能。
結構組成與功能模塊：
1、加熱系統：采用不銹鋼無塵加熱器，通過PID智能演算實現自動恒溫，溫度波動度控制在±0.5℃以內。
2、氣體控制系統：支持氮氣氣氛控制，氧含量可低至<20ppm，適用于對氧化敏感的工藝步驟。采用密封內循環風路設計，減少氮氣消耗，風道采用倒U型結構，確保送風均勻性。
3、傳輸與潔凈系統：工作室內百級潔凈度，配備耐高溫高效過濾器，過濾率達0.3μm粒子99.995%以上。隔板高度可調，適應不同尺寸晶圓的加工需求。
應用場景：
1、光刻膠固化：在基片清洗后的前烘烤(Pre-baking)、涂膠后的軟烘焙(Soft-baking)及曝光顯影后的堅膜硬烘(Hard-baking)中，通過精確控溫避免光刻膠層頂部“結殼”，確保溶劑均勻揮發。
2、防氧化處理：適用于硅片、砷化鎵、鈮酸鋰等材料的潔凈烘烤，通過惰性氣氛控制降低氧濃度，避免材料表面氧化。
3、精密元件干燥：擴展應用于LCD、TFT、COMS、生物醫藥、光學鍍膜等領域的精密元件干燥，溫度均勻度±1.5%。
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