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高壓鼓風機在芯片設備中的重要作用

來源:上海梁瑾機電設備有限公司   2025年04月16日 07:08  

高壓鼓風機在芯片設備中的重要作用

隨著工業科技的快速發展,高壓鼓風機在芯片制造設備中扮演著關鍵角色,主要通過提供穩定,潔凈的高壓氣流來滿足精密工藝需求.以下是其具體作用及重要性:

2QB-720-SHH47雙段式高壓鼓風機11.jpg

1. 環境潔凈度控制
   顆粒物清理:芯片制造對潔凈度要求高(如ISO 1級無塵室)。高壓鼓風機產生的氣流可吹去設備內部的微小顆粒,防止污染晶圓。
   正壓維持:通過向關鍵區域(如光刻機內部)持續輸送高壓過濾空氣,阻止外部污染物侵入。
2. 工藝氣體輸送
   精確供氣:在蝕刻、沉積(CVD/PVD)等工藝中,高壓鼓風機將特種氣體(如氬氣、氮氣)以穩定壓力和流量輸送到反應腔體。
   氣體循環:在真空系統中協助氣體循環,確保反應均勻性。
3. 冷卻與溫控
   設備散熱:為高功率組件(如激光器、等離子體發生器)提供強制風冷,防止過熱影響精度。
   晶圓溫度管理:通過氣流調節晶圓表面溫度,確保工藝一致性(如退火過程)。
4. 真空與排氣輔助
   局部真空生成:配合真空泵系統,快速排除廢氣或維持局部低壓環境。
   廢氣處理:將工藝產生的有害氣體(如蝕刻副產物)吹掃至處理系統。
5. 關鍵設備支持
   光刻機應用:在極紫外(EUV)光刻中,高壓氣流用于控制鏡面熱變形并吹去污染物。
   晶圓搬運:部分自動化系統利用氣浮技術(非接觸式搬運),依賴高壓氣流懸浮晶圓。
6. 特殊工藝需求
   干燥與清潔:在清洗或干燥步驟中,高壓氣流去除殘留液體或顆粒。
   氣動控制:驅動精密閥門或執行器的動作。
技術挑戰與要求
   無油運行:避免油污染,需采用無油渦旋或離心式設計。
   低振動與低噪音:防止振動影響設備精度(如納米級光刻對齊)。
   耐腐蝕材料:應對蝕刻氣體(如氟化氫)的腐蝕性。
典型應用場景舉例
  光刻機:維持鏡頭潔凈、冷卻光源。
  蝕刻機:輸送反應氣體并排出副產物。
  薄膜沉積設備:均勻分布氣體前驅體。
總結
高壓鼓風機是芯片設備中配套的輔助系統,直接影響良率、工藝穩定性和設備壽命。隨著制程節點進步(如3nm以下),對氣流精度和潔凈度的要求將更加嚴苛,推動高壓鼓風機向更高性能(如智能流量調節、納米級過濾)發展。


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