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臺式離子研磨拋光儀 SEMPrep2 作為新一代的高精密氬離子研磨系統，可以滿足研究人員苛刻的研磨需求。集成式多功能截面拋削以及無損平面拋光系統，為 SEM 以及 EBSD 用戶提供好的制樣助力。
臺式離子研磨拋光儀的研磨系統主要由以下幾個部分組成：
1.研磨盤：研磨盤是臺式離子研磨拋光儀的核心部件，通常由金屬材料制成，表面具有一定的粗糙度。研磨盤上可以安裝研磨紙或研磨布，用于進行研磨和拋光操作。
2.研磨液供給系統：研磨液供給系統用于提供研磨液，研磨液通常由水和研磨劑混合而成。研磨液的作用是冷卻研磨盤和樣品，同時還可以起到清潔和潤滑的作用。
3.研磨頭：研磨頭是連接研磨盤和樣品的部件，通常由金屬材料制成。研磨頭可以調節研磨盤和樣品之間的接觸力和研磨速度，以達到不同研磨要求。
4.控制系統：控制系統用于控制研磨盤和樣品的運動，包括研磨盤的轉速、樣品的旋轉和移動等。控制系統還可以設置研磨時間和研磨力度等參數，以滿足不同的研磨需求。
5.真空系統：真空系統用于在研磨過程中排除空氣，以減少樣品表面的氧化和污染。真空系統通常包括真空泵和真空室，可以通過控制真空度來調節研磨過程中的氣氛。
6.監測系統：監測系統用于監測研磨過程中的參數，如研磨力度、研磨速度、研磨溫度等。監測系統可以通過傳感器和儀器來實現，可以實時監測和記錄研磨過程中的數據。
以上就是臺式離子研磨拋光儀的研磨系統的主要組成部分，不同廠家和型號的儀器可能會有所差異，但基本原理和功能是相似的。
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