2021年4月21日，上海——賽默飛世爾科技（以下簡稱：賽默飛）宣布推出Helios 5 EXL晶圓雙束透射電子顯微鏡，旨在滿足半導體廠商隨著規模化經營而不斷增加的樣品量以及相應的分析需求。這款產品擁有的機器學習和*的自動化能力，可提供精確的樣品制備，以支持5納米以下節點技術和全環繞柵極半導體制程以及良率提高。

隨著半導體制程向著更小、更復雜的方向發展，半導體廠商需要更多可復現的、大批量的透射電子顯微鏡（以下簡稱：TEM）分析結果。業界對原子級分辨率數據的需求不斷增長，為失效分析實驗室帶來全新的挑戰。全環繞柵極技術（GAA）的進步提升了對于界面、薄膜以及納米級以下分辨率可測量截面更多的需求，這也為大批量TEM分析的升級增加了難度。

通過機器學習和閉環反饋進行極點配置，Helios 5 EXL能提供精確切割，使得操作者在進行高難度的樣品制備時也能始終保持高品質產出。與現有的解決方案相比，改進的自動化技術優化了機器與人工操作的比例，旨在樣品產出和技術資源生產率。

“半導體實驗室正面臨著巨大的壓力，在不增加成本的情況下，他們需要更快地提供TEM分析數據，以支持制程監控并提升學習曲線，” 賽默飛半導體事業部副總裁Glyn Davies說道，“Helios 5 EXL可以通過可擴展的、可復現的和高精度的TEM樣品制備來應對這一挑戰。”

Helios 5 EXL在保持晶圓結構的完整度上，可以幫助半導體廠商從每個晶圓中提取比現有解決方案更多的數據，以提高TEM分析成功率。

 北京華納微科技有限公司工程師多年的售后服務經驗，可提供FEI電鏡維修、賽默飛電鏡維修，移機搬遷過大量的電子顯微鏡設備，為SEM移機搬遷、TME移機搬遷、FIB移機搬遷提供良好的技術保障，也可以提供二手賽默飛各種類型電子顯微鏡已經易耗品配件等。

有電子顯微鏡問題可以隨時致與工程師溝通。