高真空電子束蒸發(fā)鍍膜機是在高真空條件下，采用電子束轟擊材料加熱蒸發(fā)的方法，在襯底上鍍制各種金屬、氧化物、導電薄膜、光學薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、超硬膜等；可鍍制混合物單層膜、多層膜或摻雜膜；可鍍各種高熔點材料。

可用于生產(chǎn)、科學實驗及教學，可根據(jù)用戶要求專門訂制。

可根據(jù)用戶使用要求，選配石英晶體膜厚自動控制及光學膜厚自動控制兩種方式, 通過PLC 和工控機聯(lián)合實現(xiàn)對整個鍍膜過程的全程自動控制, 包括真空系統(tǒng)、烘烤系統(tǒng)、蒸發(fā)過程和膜層厚度的監(jiān)控功能等，從而提高了工作效率和保證產(chǎn)品質(zhì)量的一致性和穩(wěn)定性。

設備特點

高真空電子束蒸發(fā)鍍膜機設備具有真空度高、抽速快、基片裝卸方便的特點，配備 E 型電子束蒸發(fā)源和電阻蒸發(fā)源。PID自動控溫，具有成膜均勻、放氣量小和溫度均勻的優(yōu)點。

可根據(jù)用戶使用要求，選配石英晶體膜厚自動控制及光學膜厚自動控制兩種方式,通過PLC和工控機聯(lián)合實現(xiàn)對整個鍍膜過程的全程自動控制,包括真空系統(tǒng)、烘烤系統(tǒng)、蒸發(fā)過程和膜層厚度的監(jiān)控功能等，從而提高了工作效率和保證產(chǎn)品質(zhì)量的一致性和穩(wěn)定性。

真空性能

極限真空：7×10∧-5Pa～7×10∧-6Pa

設備總體漏放率：關機12小時，≤10Pa

恢復工作真空時間短，大氣至7×10-4Pa≤30分鐘；

設備構(gòu)成

E 型電子束蒸發(fā)槍、電阻熱蒸發(fā)源組件（可選配）、樣品掩膜擋板系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)及真空測量系統(tǒng)、分子泵真空機組或低溫泵真空機組、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺、工作氣路、樣品傳遞機構(gòu)，膜厚控制系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、恒溫冷卻水系統(tǒng)等組成。

可選件：膜厚監(jiān)控儀，恒溫制冷水箱。

熱蒸發(fā)源種類及配置

電阻熱蒸發(fā)源種類

-鉭（鎢或鉬）金屬舟熱蒸發(fā)源組件

-石英舟熱蒸發(fā)源組件

-鎢極或鎢藍熱蒸發(fā)源組件

-鉭爐熱蒸發(fā)源組件（配氮化硼坩堝或陶瓷坩堝）

-束源爐熱蒸發(fā)組件（配石英坩堝或氮化硼坩堝）

操作方式

手動、半自動