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電阻率測試儀主要技術(shù)指標以及功能

來源:北京精誠華泰儀表有限公司   2011年07月27日 11:07  

                     電阻率測試儀主要技術(shù)指標以及功能

四探針電阻率測試儀主要技術(shù)指標:

1.  四探針電阻率測試儀

四探針法本方法快速且不需要樣品有規(guī)則的橫截面。本測試方法可用于不規(guī)則形狀的樣品,只要它有適于探針接觸的平面區(qū)域即可。如本標準所述,本測試方法只適用于厚度和任一探針尖到zui近邊緣的距離都至少為探針間距的四倍的樣品。對于厚度大于探針間距一倍而小于四倍的圓形橫截面樣品這樣特定的場合,用本方法進行測量是可行的,測量中要求使用的近似幾何修正可使測量精度提高。

四探針電阻率/方阻測試儀以下簡稱電阻率測試儀)是參考按照硅片電阻率測量的標準(ASTM F84)及國家標準設(shè)計制造,用來測量半導體材料(主要是硅單晶、鍺單晶、硅片)電阻率,以及擴散層、外延層、ITO導電薄膜、導電橡膠方塊電阻的測量儀器。它主要由電氣測量部份(簡稱:主機)、測試架及四探針頭組成。主機提供精度為0.1%的恒流源,使測量電流高度穩(wěn)定。,儀器配置了本公司的產(chǎn)品:小游移四探針頭,探針游移率在0.10.2%。保證了儀器測量電阻率的重復性和準確度。

2.      四探針電阻率/方阻測試儀設(shè)備技術(shù)要求及性能指標:

3.  四探針電阻率測試儀測量范圍:電阻率0.01199.9歐姆·厘米,zui小分辨率為0.01歐姆·厘米

方塊電阻0.11999歐姆/□,zui小分辨率為0.1歐姆/

2.1     可測量材料:半導體材料硅鍺棒、塊、片、導電薄膜等

2.2     可準確測量的半導體尺寸:直徑≥20

2.3     可測量的半導體尺寸:直徑≥8

2.4     測量方式:平面測量。

2.5     電壓表:

A.量程0~199.9 mV

B. 靈敏度:100μv

C.基本誤差0.2%(±2個字)

D.輸入阻抗﹥1000MΩ

E. 3 1/2位數(shù)字顯示,01999

2.6     恒流源:

A.電流輸出:直流電流0.110 mA連續(xù)可調(diào),由交流電源供給

B.量程: 1 mA,10 mA兩檔

 C.恒流源精度:各檔均≤±0.1%

2.7     四探針測試探頭B

A.探頭間距1.59    

B.探針機械游率:±0.5%

C.探針直徑0.8㎜,探針針尖壓痕直徑30-50μm,探針合力8±1N  

D.探針材料:碳化鎢,探針間及探針與其他部分之間的絕緣電阻大于109歐姆。

2.8   四探針電阻率測試儀

2.9     測試架

JCKDJ-1A 型手動測試架探頭上下由手動操作,可以用作斷面單晶棒和硅片測試,探針頭可上下移動距離:120mm,測試臺面200x200(mm)

2.10  精度

電器精度:1-100歐姆≤0.4 %

整機測量精度:1-100歐姆·厘米≤5%

固定點測量重復性:1-10歐姆·厘米≤3%

電流:220V±10%,50HZ,功率消耗﹤25

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