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冶金行業純水設備含有兩個方面：一是工業用的純凈水，比如生產芯片、半導體等等需要純度很高的沒有雜質的純凈水；二是飲用純凈水生產及灌裝設備，這個是專門生產飲用桶裝水或者瓶裝水的。
冶金行業純水設備物理清洗方法：
1.停止裝置慢慢的把操作壓力降低，逐步停止裝置，因為如果一下子停止裝置會導致裝置中的壓力快速的下降形成水錘，沖擊對管道、壓力容器以及膜元件造成一定的損傷。2.調節閥門首先把濃溶液的水閥門全部打開；之后把進水的閥門關閉；接著把產水閥門打開到大。如果把關閉閥門順序搞錯了，就可能會產生背壓對壓力容器中的后端的膜元件造成械性的損害。3.清洗作業
首先把低壓清洗泵打開；然后再慢慢的把進水閥打開，這時候一定要注意觀察濃縮水流量計的流量；調節進水閥門一直調到流量和壓力都達到預先設計好的值；后在10-15分鐘后慢慢地關閉進水閥門，停止進水泵。
冶金行業純水設備化學清洗方法：
化學清洗方法是利用化學藥劑進行清洗的，針對不同的污染物要選用不同的化學藥劑，下面也會給大家介紹什么污染物選用什么化學藥劑。
1、檸檬酸清洗
在采用檸檬酸溶液進行清洗之前，先用軟化水或者RO產品水對膜元件進行沖洗。向清洗水箱中添加檸檬酸(白色粉末)，對溶液進行連續的攪動，使檸檬酸迅速和充分溶解，使檸檬酸溶液濃度達到2%(質量百分比)。在添加藥品之前，將大塊的藥品敲碎，以避免對攪拌器和水泵造成損壞。
2、十二烷基磺酸鈉(Na-SDS)清洗劑清洗
配制0.025%(質量百分比濃度)十二烷基磺酸鈉和0.1%(質量百分比濃度)NaOH溶液，控制溶液溫度小于30℃，其pH控制范圍在pH12以內。此種方法作為系統的一步化學清洗。
3、六聚偏磷酸鈉+鹽酸的清洗向水中添加SHMP(白色粉末)，小批量逐步添加，以達到1.0%濃度(質量百分比)溶液。使用攪拌器連續地攪拌溶液，使化學藥品均勻混合。緩慢的將鹽酸(HCl)添加到SHMP溶液中，直到溶液的pH值達到2。鹽酸(HCl)是一種腐蝕性的無機酸，在處理鹽酸時要注意安全規則。
溶液的pH值應該接近，但是要大于2。如果在清洗期間溶液的pH值升高超過3.5，則要添加鹽酸(HCl)直到pH值恰好大于2。如果pH值降低到小于2，使用NaOH進行調節。NaOH是一種腐蝕性無機堿，在使用時要注意安全規則。
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