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目錄:牛津儀器(上海)有限公司>>RIE Etching>> PlasmaPro 100 RIE

PlasmaPro 100 RIE
  • PlasmaPro 100 RIE
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更新時(shí)間:2022-11-30 12:44:26瀏覽次數(shù):217評價(jià)

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  • 用特殊配置的PlasmaPro FA設(shè)備進(jìn)行失效分析的干法刻蝕解剖工藝,可處理封裝好的芯片, 裸晶片,以及200mm晶圓
RIE of InP waveguide

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70nm Fused Silica lines 933nm deep Cr mask

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Dielectric metal etch

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