體外診斷（IVD）試劑的凍干工藝對(duì)設(shè)備性能要求ji高，選型時(shí)需重點(diǎn)關(guān)注核心技術(shù)要點(diǎn)，以確保設(shè)備滿足生產(chǎn)需求，保障產(chǎn)品質(zhì)量與穩(wěn)定性。

以下是 IVD 凍干機(jī)設(shè)備選型核心：

1. 冷凍系統(tǒng)

1.1 板層制冷溫度范圍

 IVD試劑常規(guī)含鹽量較高，生物活性成分（如酶、抗體等）需要在極低溫度下才能保持其活性，且有原位凍干和液滴成球凍干等多種凍干方式。一次升華溫度大約在-30℃以下甚至更低，因此板層需要選擇制冷能力在-55℃以下的設(shè)備，如采用雙級(jí)或復(fù)疊制冷系統(tǒng)的凍干機(jī)，以維持板層溫度要求，保持升華足夠的梯度壓，確保凍干過程順利進(jìn)行，保證酶類試劑不易失活變性。

1.2 板層均勻性

 均勻的溫度分布能確保物料凍干效果一致，避免局部過熱或過冷，影響試劑的活性、穩(wěn)定性及批內(nèi)、批間差，要求加熱板溫度均勻性≤±1℃，隔板控溫≤±0.5℃。

1.3 冷阱溫度

 冷阱溫度越低，捕水能力越強(qiáng)，能確保物料中水分高效凝結(jié)。推薦使用凍干機(jī)冷阱溫度在-80℃以下凍干機(jī)。

2. 真空系統(tǒng)

2.1 真空度范圍

 IVD 凍干機(jī)運(yùn)行時(shí)的真空度一般需要達(dá)到10Pa以下。在這樣的高真空度下，使得試劑中的水分能夠在較低溫度下升華，避免試劑成分因高溫而變性。

 真空泵的抽氣能力要能夠快速達(dá)到所需的真空度，并且在凍干過程中能夠保持穩(wěn)定的真空度。在有IVD試劑凍干的情況下，一般從大氣壓到10pa以下，真空度時(shí)間要＜20min，如果真空度不穩(wěn)定，可能會(huì)導(dǎo)致凍干速度變慢或者凍干效果不均勻。

3. 干燥箱面積與體積

3.1 板層面積

 干燥箱板層面積決定了每次凍干的試劑數(shù)量，對(duì)于小型IVD試劑生產(chǎn)企業(yè)或研發(fā)實(shí)驗(yàn)室初期，一般采用0.2-1平米左右偏中試生產(chǎn)功能性的凍干機(jī)來進(jìn)行凍干工藝階段摸索，便于減少后期生產(chǎn)放大帶來的工藝誤差。

 但如果企業(yè)有條件的話，建議研發(fā)初期先評(píng)估后續(xù)生產(chǎn)所需產(chǎn)能，根據(jù)所需產(chǎn)能直接采用中試生產(chǎn)型凍干機(jī)進(jìn)行研發(fā)期到生產(chǎn)期的工藝摸索與生產(chǎn)過度，因?yàn)楸旧鞩VD試劑對(duì)溫度敏感且試劑成分比較復(fù)雜，試劑凍干前配制過程也容易造成不穩(wěn)定，且試劑較貴，避免后續(xù)從小型研發(fā)設(shè)備換中試生產(chǎn)型設(shè)備時(shí)存在工藝再重新摸索優(yōu)化的風(fēng)險(xiǎn)，甚至導(dǎo)致整個(gè)試劑體系出現(xiàn)問題。所以根據(jù)產(chǎn)能情況有條件的話建議研發(fā)期直接推薦使用0.5-3平米中試生產(chǎn)型凍干機(jī)。

3.2 干燥箱體積

 IVD產(chǎn)品使用的包材形狀多樣，如西林瓶干、塑料試劑盒、pcr管、鋁板、托盤等，所以干燥箱要考慮凍干體積方面也要考慮干燥箱的高度，板層間距應(yīng)足夠，且?guī)喝δ埽詽M足不同產(chǎn)品的凍干需求，以保證熱量和真空度能夠均勻分布到每一個(gè)試劑容器中。

4. 箱體材質(zhì)與結(jié)構(gòu)

4.1 材質(zhì)的選擇

箱體、板層、盤管等關(guān)鍵部件應(yīng)采用優(yōu)質(zhì)316不銹鋼，經(jīng)過高精度拋光處理，并通過單體、綜合等多重檢驗(yàn)，確保設(shè)備運(yùn)行穩(wěn)定安全，耐腐蝕、耐磨損。

內(nèi)部焊接應(yīng)采用全不銹鋼焊接，避免使用密封膠等材料，減少污染風(fēng)險(xiǎn)。

4.2 結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)

設(shè)備應(yīng)具備良好的熱傳導(dǎo)性能，板層設(shè)計(jì)應(yīng)優(yōu)化熱傳遞效率，減少熱量損失。

設(shè)備內(nèi)部應(yīng)便于清洗和維護(hù)，減少交叉污染風(fēng)險(xiǎn)。

總計(jì)與建議

一、工藝需求為本

選型時(shí)應(yīng)以 IVD 試劑的凍干工藝需求為核心，重點(diǎn)關(guān)注溫度控制、真空系統(tǒng)、冷阱設(shè)計(jì)、評(píng)估后續(xù)凍干產(chǎn)能等核心技術(shù)要點(diǎn)，必要時(shí)設(shè)備入廠后再次進(jìn)行3Q驗(yàn)證，形成體系文件的同時(shí)也能滿足后續(xù)凍干樣品的需求。

二、設(shè)備性能與質(zhì)量

由于IVD試劑的凍干工藝對(duì)設(shè)備性能要求ji高，應(yīng)選擇高性能質(zhì)量的設(shè)備，確保設(shè)備性能穩(wěn)定可靠，減少運(yùn)行風(fēng)險(xiǎn)。

三、成本與效益平衡

在滿足工藝需求的前提下，綜合考慮設(shè)備成本、運(yùn)行成本和維護(hù)成本，選擇性價(jià)比高的設(shè)備。

四、技術(shù)支持與服務(wù)

選擇具備完善技術(shù)支持，最好有IVD凍干經(jīng)驗(yàn)的售后服務(wù)供應(yīng)商，確保設(shè)備安裝、調(diào)試、運(yùn)行和維護(hù)的順利進(jìn)行，同時(shí)能提供后續(xù)相應(yīng)凍干工藝技術(shù)支持。