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美薩科技(蘇州)有限公司
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當(dāng)前位置:美薩科技(蘇州)有限公司>>科學(xué)儀器>>HORIBA堀場(chǎng)>> HORIBA堀場(chǎng)UVISEL PLUSHORIBA堀場(chǎng)橢圓偏振光譜儀模塊化設(shè)計(jì)

HORIBA堀場(chǎng)橢圓偏振光譜儀模塊化設(shè)計(jì)

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產(chǎn)品型號(hào)HORIBA堀場(chǎng)UVISEL PLUS

品       牌HORIBA/堀場(chǎng)

廠商性質(zhì)代理商

所  在  地蘇州市

更新時(shí)間:2025-06-24 15:51:50瀏覽次數(shù):57次

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應(yīng)用領(lǐng)域 電子/電池,道路/軌道/船舶,制藥/生物制藥,汽車及零部件
HORIBA堀場(chǎng)橢圓偏振光譜儀模塊化設(shè)計(jì)UVISEL Plus作為一款高準(zhǔn)確性、高靈敏度、高穩(wěn)定性的經(jīng)典橢偏機(jī)型,它采用了PEM 相位調(diào)制技術(shù),與機(jī)械旋轉(zhuǎn)部件技術(shù)相比, 能提供更好的穩(wěn)定性和信噪比。

HORIBA堀場(chǎng)橢圓偏振光譜儀模塊化設(shè)計(jì)

UVISEL Plus橢圓偏振光譜儀為優(yōu)良薄膜、表面和界面表征提供了模塊化和性能的優(yōu)化組合。

UVISEL Plus作為一款高準(zhǔn)確性、高靈敏度、高穩(wěn)定性的經(jīng)典橢偏機(jī)型,它采用了PEM 相位調(diào)制技術(shù),與機(jī)械旋轉(zhuǎn)部件技術(shù)相比, 能提供更好的穩(wěn)定性和信噪比。光譜范圍從190nm到2100nm。

UVISEL Plus集成了全新的FastAcqTM快速采集技術(shù),可在3分鐘以內(nèi)實(shí)現(xiàn)高分辨的樣品測(cè)試(190-2100 nm),校準(zhǔn)僅需幾分鐘。基于全新的電子設(shè)備,數(shù)據(jù)處理和高速單色儀,F(xiàn)astAcq技術(shù)能夠?yàn)橛脩籼峁└叻直婕翱焖俚臄?shù)據(jù)采集。FastAcq專門為薄膜表征設(shè)計(jì),雙調(diào)制技術(shù)可以確保您獲得優(yōu)異的測(cè)試結(jié)果。

HORIBA堀場(chǎng)橢圓偏振光譜儀模塊化設(shè)計(jì)相位調(diào)制技術(shù)的特點(diǎn)為高頻調(diào)制 50 kHz,信號(hào)采集過程無(wú)移動(dòng)部件:

  • 測(cè)試全范圍的橢偏角,Ψ (0-90),Δ (0-360)

  • 從FUV到NIR具有優(yōu)良的信噪比

  • 數(shù)據(jù)采集速度快,高達(dá)50毫秒/點(diǎn),是動(dòng)力學(xué)研究和在線測(cè)量的理想選擇

 

相比于采用 旋轉(zhuǎn)元件調(diào)制的傳統(tǒng)橢圓偏振光譜儀,UVISEL Plus的相位調(diào)制模式在表征薄膜方面具有更高的靈敏度和精度。它不僅可以探測(cè)到其他橢偏儀無(wú)法觀測(cè)到的極薄膜或界面,還可以表征50µm的厚膜。

在測(cè)試有背反射的透明樣品時(shí),測(cè)試簡(jiǎn)單、準(zhǔn)確,無(wú)需刮花背面。

UVISEL Plus還設(shè)計(jì)有多種附件及可選功能,便于客戶根據(jù)應(yīng)用需求及預(yù)算選擇合適的配置。比如,微光斑用于圖案樣品、自動(dòng)變角器、自動(dòng)樣品臺(tái)等。

UVISEL Plus采用模塊化設(shè)計(jì),可靈活擴(kuò)展。即可用于離線臺(tái)式測(cè)量,也可以耦合于鍍膜設(shè)備做在線監(jiān)控。

UVISEL Plus可根據(jù)習(xí)慣選擇操作界面,一個(gè)是 DeltaPsi2  具有建模和擬合處理功能;另一個(gè)是 Auto-Soft 用戶導(dǎo)向的全自動(dòng)樣品測(cè)試界面 ,工作流程直觀,易于非專業(yè)人士操作。

UVISEL Plus搭載FastAcq技術(shù)是材料研究和加工、平板顯示、微電子和光伏領(lǐng)域中優(yōu)選通用光譜型橢偏儀。

UVISEL Plus是材料科學(xué)研究的理想工具。


  • 高精度和高靈敏度

  • 模塊化設(shè)計(jì)

  • 寬光譜范圍: 190-2100 nm

  • 集數(shù)據(jù)測(cè)量、建模和自動(dòng)化操作為一體的軟件包

 

獲得的信息

  • 膜層厚度,從1?到50 µm

  • 表面和界面粗糙度

  • 光學(xué)常數(shù) (n,k) ,適用于各向同/異性和漸變層

  • 光學(xué)特性如:吸收系數(shù)α, 光學(xué)帶隙Eg

  • 材料性能:合金成分、孔隙率、結(jié)晶度及形貌等

  • 穆勒矩陣

  • 退偏

各類日系工業(yè)品:,SSD西西蒂(離子風(fēng)扇)、AND愛安得(電子天平)、SAN-EI三英(點(diǎn)膠閥) HOYA光源,KURABO脫泡機(jī),USHIO牛尾照度計(jì),Tsubosaka壺坂電機(jī),IMV愛睦威,PISCO匹士克接頭,hakko八光電機(jī),lambda拉姆達(dá)膜厚儀,MUSASHI武藏,SAKURAI櫻井,aitec艾泰克,otsuka大塚(膜厚儀、粒度儀),Hitachi日立(掃描電鏡),MIKASA米卡薩(旋涂設(shè)備、顯影)、POLARION普拉瑞、AITEC艾泰克(檢查光源)、Iwasaki巖崎、OTSUKA大塚電子(光學(xué)膜厚儀)、KOSAKA小坂(臺(tái)階儀)、HORIBA堀場(chǎng)儀器(分析儀)、SIBATA柴田科學(xué)(環(huán)境測(cè)定)、TORAY東麗濃度儀(氧氣分析儀)、yamada山田鹵素強(qiáng)光燈、CEDAR思達(dá)

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