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這臺高分辨率顯微成像橢偏儀有別于傳統橢偏儀，這是新一代的顯微成像橢偏儀技術，它有機地結合了傳統光譜橢偏儀和光學顯微鏡技術，使得我們能夠在小至1µm的微...

大尺寸臺式熱原子層沉積系統 ALD安瑞克(ANRIC)技術公司開發的原子層沉積(ALD)是一種氣相薄膜沉積技術，以其出色的匹配性、均勻性以及亞納米級的厚度控制而...

多功能高低溫真空探針臺,電-光-氣接口齊全，應用場景不受限。可實現寬溫度范圍、高真空或氣氛控制。可與各種阻抗分析儀、LCR表、鐵電測試儀、光伏測試儀、半導體參數...

市面上最小的ALD，可放進手套箱，來自美國哈佛的原子層沉積系統兼容高溫的快速脈沖 ALD 閥，具有超快 MFC，用于集成惰性氣體吹掃。

IM4000Ⅱ標準離子研磨儀使用低能量Ar離子束，加工無應力損傷的樣品截面，為SEM觀察樣品的內部多層結構、結晶狀態、異物解析、層厚測量等提供有效的樣品前處理方...

WK6500系列精密阻抗分析儀七種機型：20Hz~5MHz，10MHz，15MHz，20MHz，30MHz，50MHz和120MHz，符合客戶不同采購需求

WK6500P高頻LCR表系列適用于生產線上高頻LCRMeter的量測，本機種一共有七種機型，分別20HZ~5MHz，20HZ~10MHz，20HZ~15MHz...

PICOSUN R-200 標準型ALD系統，PICOSUN®R-200標準ALD系統適用于數十種應用的研發，例如IC組件、MEMS器件、顯示器、LE...

設備特點：脈沖電閃基反應器是集閃蒸焦耳熱系統和快速焦耳熱系統為一體的反應系統包括兩個電源系統(大功率電容系統和恒壓電源系統)和電壓、電流、溫度實時測試系統。

kashiyama NeoDry-15G 真空泵產品特點:·適合研究室等領域·無負荷運行噪音小于45dB/36G：50dB（A）·...

PIPS Ⅱ 精密離子減薄儀用于高質量透射電鏡樣品的制備，它可精確定位減薄位置并對工藝參數進行精確控制

MP系列微納3D打印機采用亞像素微掃描光引擎技術，以半導體激光器陣列為光源，采用自主知識產權的掩膜生成器件，可實現μm級別的打印精度和不低于700mm³...

惰性氣體手套箱系統型號：UNIlabMAX/LabstarMax系統集成氣體凈化系統的簡潔設計

鐵電分析儀型號：TFANALYZER1000/2000E/3000TFANALYZER是一款擴展性的高速型模塊化鐵電壓電分析儀，具備鐵電、壓電、熱釋電材料所有基...

常溫壓電d33測試儀型號：ZJ-3/ZJ-4/ZJ-5/ZJ-6準靜態d33測量儀是為測量壓電材料的d33常數而設計的專用儀器，其d33測量范圍極寬，可達500...

壓電陶瓷高壓極化儀，ET2673D-4全數顯型壓電陶瓷高壓極化設備，電壓、時間、溫度均為數字顯示

實驗室小型水冷機型號：CW-5200TISW/CW-5200TI冷水機，溫控精度達±0.1℃，小體積，大制冷量，可滿足無塵車間或實驗室封閉環境的使用要...

通用顯微冷熱臺廣泛用于圖象表征各種熱轉變過程，能夠直接用于觀察樣品在加熱或冷卻過程中的形態變化以及結晶過程中形狀、結構、顏色以及大小和數量的變化

CVTD 材料氣相輸運與沉積系統CVTD 材料氣相生長輸運與沉積系統，可以滿足塊體、粉末、薄膜等樣品真空 ( 保 護氣氛下 ) 合成生長制備，廣泛適用于低維材料...

1.2.1真空封管機系統型號：單工位/雙工位/三工位真空封管機+系統主要用于實現樣品的無氧無水真空密封保存或高溫固相合成，整套系統由真空封管機、氫氧機、分子泵機...