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產(chǎn)品簡介
詳細介紹
產(chǎn)品簡介： SE-VM是一款高精度快速測量光譜橢偏儀。可通過橢偏參數(shù)、透射/反射率等參數(shù)的測量，快速實現(xiàn)光學參數(shù)薄膜和納米結構的表征分析，適用于薄膜材料的快速測量表征。支持多角度，微光斑，可視 化調(diào)平系統(tǒng)等高兼容性靈活配置，多功能模塊定制化設計。
高精度橢偏測量解決方案；超高精度、快速無損測量；支持多角度、微光斑、可視化調(diào)平系統(tǒng)功能模塊靈活定制；豐富的數(shù)據(jù)庫和幾何結構模型庫，保證強大數(shù)據(jù)分析能力。廣泛應用于鍍膜工藝控制、tooling 校正等測量應用,實現(xiàn)光學薄膜、納米結構的光學常數(shù)和幾何特征尺寸快速的表征分析。
| 產(chǎn)品型號 | SE-VM 光譜橢偏儀 |
| 主要特點 | 1、采用高性能進口復合光源，光譜覆蓋可見到近紅外范圍
2、高精度旋轉補償器調(diào)制、 PCRSA 配置， 實現(xiàn)Psi/Delta光譜數(shù)據(jù)高速采集 |
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| 3、支持系列配置靈活，可根據(jù)不同應用場景支持多功能模塊化定制 |
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| 4、數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫、多種算法模型庫，涵蓋了目前絕大部分的光電材料 |
| 技術參數(shù) | 1、自動化程度：手動變角
2、應用定位：通用型 |
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| 3、基本功能： Psi/Delta、N/C/S、R/T 等光譜 | |
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| 4、分析光譜 380-1000nm(可擴至210-1650nm)
5、單次測量時間： 0.5-5s
6、重復性測量精度： 0.01nm | |
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| 7、光斑大小： 大光斑 2-3mm,微光斑 200 μm | |
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| 8、入射角調(diào)節(jié)方式：手動變角
9、入射角范圍： 55-75°(5°步進),90°
10、找焦方式：手動找焦 | |
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| 11、Mapping 行程：不支持 | |
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| 12、支持樣件尺寸： 至 180mm | |
| 可選配件 | 1 | 溫控臺 |
| 2 | Mapping 擴展模塊 | |
| 3 | 真空泵 | |
| 4 | 透射吸附組件 | |