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最大 300 mm的晶圓厚度測厚儀
  • 最大 300 mm的晶圓厚度測厚儀
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貨物所在地:北京北京市

地: 日本

更新時間:2024-11-02 15:38:42

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最大 300 mm的晶圓厚度測厚儀,自動對位功能和使用具有高平整度的晶圓卡盤可實(shí)現(xiàn)可靠的薄膜厚度測量。 此外,它可以安裝在半導(dǎo)體制造設(shè)備的負(fù)載端口,以在保持清潔度的同時管理制造設(shè)備上的薄膜厚度。

長處

映射涂層測厚儀能夠在最大 300 mm 的晶圓的所有表面上自動映射膜厚測量。 自動對位功能和使用具有高平整度的晶圓卡盤可實(shí)現(xiàn)可靠的薄膜厚度測量。 此外,它可以安裝在半導(dǎo)體制造設(shè)備的負(fù)載端口,以在保持清潔度的同時管理制造設(shè)備上的薄膜厚度。


    • 1

    • 能夠?qū)ψ畲?300 mm 的晶圓的整個表面進(jìn)行自動涂層厚度映射測量


    • 2

    • 自動對位功能


    • 通過自動檢測缺口和無花柱位置,以及自動檢測晶圓偏心率,實(shí)現(xiàn)高精度測量。

    • 3

    • 通過使用具有高平整度的晶圓卡盤,提高晶圓表面的測量可靠性


    • 4

    • 可根據(jù)應(yīng)用選擇三種類型的光源。


    • 5

    • 透明蓋,便于在測量過程中查看運(yùn)動


    • 6

    • 一體化節(jié)省空間的設(shè)計(jì)

  • 測量數(shù)據(jù)示例(2D 膜厚分布)層壓晶圓的硅
    厚度 (nm)

  • 測量數(shù)據(jù)示例(3D 薄膜厚度分布)層壓晶圓的硅厚度
    (nm)

  • 測量數(shù)據(jù)示例(薄膜厚度的頻率分布)層壓晶圓中的硅厚度

  • 測量數(shù)據(jù)示例(多個晶圓的膜厚分布箱線圖)5 個晶圓的膜厚分布趨勢

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