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安裝在半導體制造設備的負載端口測厚儀
  • 安裝在半導體制造設備的負載端口測厚儀
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貨物所在地：北京北京市

所在地： 日本

更新時間：2024-11-02 15:35:15

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安裝在半導體制造設備的負載端口測厚儀，映射涂層測厚儀能夠在最大 300 mm 的晶圓的所有表面上自動映射膜厚測量。 自動對位功能和使用具有高平整度的晶圓卡盤可實現可靠的薄膜厚度測量。


    • 1

    • 能夠對最大 300 mm 的晶圓的整個表面進行自動涂層厚度映射測量


    • 2

    • 自動對位功能


    • 通過自動檢測缺口和無花柱位置，以及自動檢測晶圓偏心率，實現高精度測量。

    • 3

    • 通過使用具有高平整度的晶圓卡盤，提高晶圓表面的測量可靠性


    • 4

    • 可根據應用選擇三種類型的光源。


    • 5

    • 透明蓋，便于在測量過程中查看運動


    • 6

    • 一體化節省空間的設計

  • 測量數據示例（2D 膜厚分布）層壓晶圓的硅
    厚度 （nm）

  • 測量數據示例（3D 薄膜厚度分布）層壓晶圓的硅厚度
    （nm）

  • 測量數據示例（薄膜厚度的頻率分布）層壓晶圓中的硅厚度

  • 測量數據示例（多個晶圓的膜厚分布箱線圖）5 個晶圓的膜厚分布趨勢

映射涂層測厚儀能夠在最大 300 mm 的晶圓的所有表面上自動映射膜厚測量。 自動對位功能和使用具有高平整度的晶圓卡盤可實現可靠的薄膜厚度測量。 此外，它可以安裝在半導體制造設備的負載端口，以在保持清潔度的同時管理制造設備上的薄膜厚度。

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