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上海川納實驗儀器有限公司
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低溫恒溫槽裝置確保制冷系統安全

時間:2023/12/12閱讀:833
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低溫恒溫槽裝置為用戶提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個量程范圍 的溫度J確控制,應用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制,半導體擴散爐擴散工藝控制,低溫測 量和檢定,樣品保存等浸入式或外循環應用。
低溫恒溫槽裝置精密恒溫控制系統,整個量程范圍的溫度J確可控,噪音低,制冷效率高。其它制冷關鍵配件也采用全進口配件;制冷系統具備高壓保 護器,確保制冷系統安全。低溫恒溫槽裝置采用全封閉磁力泵循環攪拌,溫場均勻,無泄漏,傳感器開路、短路保護、雙重溫度保護等功能,確保儀器安全運行。
低溫恒溫槽裝置可在機內水槽進行恒溫實驗,或通過軟管與其他設備相連,作為恒溫源配套使用,為用戶工作時提供一個熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,對試驗樣品或生產的產品進行恒定溫度試驗或測試,可作為直接加熱或制冷和輔助加熱或制冷的熱源。低溫恒溫槽裝置內置新一代溫度控制程序,確保設備運行穩定,全封閉壓縮機組制冷,制冷系統具有過熱、過電流多重保護裝置。
低溫恒溫槽裝置可以把槽內被恒溫液體外引,建立第二恒溫場,槽內冷液可外引,冷卻機外實驗容器,也可在槽內直接進行低溫、恒溫實驗,采用模擬數字PID自動控制系統,溫度數字顯示,內膽、臺面均為全不銹鋼,清潔衛生,美觀耐腐蝕。低溫恒溫槽裝置為用戶提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個量程范圍的溫度J確控制,應用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制,半導體擴散爐擴散工藝控制,低溫測量和檢定,樣品保存等浸入式或外循環應用。
低溫恒溫槽裝置精密恒溫控制系統,整個量程范圍的溫度J確可控,噪音低,制冷效率高。其它制冷關鍵配件也采用全進口配件;制冷系統具備高壓保護器,確保制冷系統安全。低溫恒溫槽裝置采用全封閉磁力泵循環攪拌,溫場均勻,無泄漏,傳感器開路、短路保護、雙重溫度保護等功能,確保儀器安全運行。

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