日本orc半導體光刻機 PPS-8200p1/8300p1
用途：支持各種應用
特長
-寬頻譜光刻 (與菜單連動的 ghi線 gh線, i線的自動切換)
-搭載可變NA功能 (可變為0.16和0.1)
-最多8Field的拼接設計格式
-光學系統不受感光材揮發氣體和周圍環境中化學物質影響
日本orc半導體光刻機 PPS-8200p1/8300p1
用途：支持各種應用
特長
-寬頻譜光刻 (與菜單連動的 ghi線 gh線, i線的自動切換)
-搭載可變NA功能 (可變為0.16和0.1)
-最多8Field的拼接設計格式
-光學系統不受感光材揮發氣體和周圍環境中化學物質影響
制品規格
型式
| PPS-8200p1/8300p1 |
| wafer尺寸 | 6/8/12 英寸 |
| NA（開口數） | 0.16、0.1可變 |
| 縮小比 | 1:1 |
| Field尺寸 | 52mm × 33mm |
| 光刻波長 | ghi-Line gh-line i-line(與菜單連動) |
| 視野尺寸 | 6inch |
| 重復對位精度 | ≦0.5 µm(|Ave|+3σ) |
| 裝置尺寸／重量 | （W）2,260×（D）3,460×（H）2,500mm / 5,500kg |
日本orc半導體光刻機 PPS-8200p1/8300p1
用途：支持各種應用
特長
-寬頻譜光刻 (與菜單連動的 ghi線 gh線, i線的自動切換)
-搭載可變NA功能 (可變為0.16和0.1)
-最多8Field的拼接設計格式
-光學系統不受感光材揮發氣體和周圍環境中化學物質影響
制品規格
型式
| PPS-8200p1/8300p1 |
| wafer尺寸 | 6/8/12 英寸 |
| NA（開口數） | 0.16、0.1可變 |
| 縮小比 | 1:1 |
| Field尺寸 | 52mm × 33mm |
| 光刻波長 | ghi-Line gh-line i-line(與菜單連動) |
| 視野尺寸 | 6inch |
| 重復對位精度 | ≦0.5 µm(|Ave|+3σ) |
| 裝置尺寸／重量 | （W）2,260×（D）3,460×（H）2,500mm / 5,500kg |
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