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| 產地類別 | 國產 | 出料粒度 | 0.01mm以下 |
|---|---|---|---|
| 價格區間 | 面議 | 樣品適用 | 多種樣品 |
| 儀器種類 | 研磨機 | 應用領域 | 化工,電子/電池 |
產品簡介
詳細介紹
MC1000離子濺射儀
由日立高新技術公司自行設計制造，針對掃描電鏡的精細**需求而設計，適合微觀結構較復雜的樣品，尤
其適合于場發射掃描電鏡的高倍率觀測應用。
主要特點：
1. 操作方便且有記憶功能，首LCD觸摸屏控制技術，可存儲五種處理方案；
2. 通過磁場控制金屬顆粒的濺射噴鍍軌跡，從而使鍍層更均勻；
3. 通過選配測量單元可實現1nm至30nm的鍍層厚度控制。
應用領域：
離子濺射儀在掃描電鏡中應用十分廣泛，通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導電樣品的荷電現象，并提高觀測效率，另外可以使用噴碳附件對樣品進行蒸碳，實現不導電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。