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CAS | n/a | 純度 | 95% |
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分子量 | n/a | 分子式 | n/a |
供貨周期 | 現貨 | 規格 | mg |
應用領域 | 醫療衛生,化工,生物產業,能源,制藥/生物制藥 | 主要用途 | 科研 |
HF酸刻的Mo2C mxene粉末
描述:
HF(氫氟酸)刻蝕的Mo2C MXene粉末指的是經過HF酸處理的Mo2C MXene材料的粉末形式。HF酸是一種常用于刻蝕MXene材料的強酸,可以去除MXene材料中的氟和氧等表面功能基團,從而調節MXene材料的表面化學性質。
經過HF酸刻蝕處理后的Mo2C MXene粉末可能具有改變的表面性質和結構特征。通常情況下,這種處理會導致MXene表面的氟和氧含量降低,同時可能會暴露出更多的活性位點,改變其表面的電荷分布和化學活性。這種處理可以用于調節MXene材料的表面性質,以滿足特定應用的需求。
HF酸刻的Mo2C mxene粉末
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