AE XSTREAM 遠程等離子體源 RPS 是采用集成主動匹配網(wǎng)絡用于大流量高壓反應性氣體工藝的全集成等離子體源平臺。高效Xstream平臺安裝在處理腔外部，使用穩(wěn)定進氣產生中性的反應性粒子，主要用于表面改性、腔室清洗、薄膜刻蝕和等離子體輔助沉積。Xstream平臺集成了遠程等離子體源、8kW或10kW高效電源、優(yōu)良的固態(tài)主動匹配網(wǎng)絡，可用于最寬的腔室清洗源商用阻抗工作范圍。Xstream平臺為工藝工程師提供了優(yōu)秀的反應性氣體工藝靈活性，從而提高系統(tǒng)通量和優(yōu)化使用昂貴的等離子體源。

AE XSTREAM 遠程等離子體源 RPS 優(yōu)點

1. 有效優(yōu)化使用昂貴資源

2. 提供最寬的商用阻抗工作范圍

3. 無縫使用多種化學物質，包括現(xiàn)有的PFC / O₂ 原位腔室清洗工藝方案

4. 提升工藝性能、靈活性和通量                                                      

5. 實現(xiàn)原位和遠程CVD腔室清洗的流線型改造

6. 利用原有AE主動匹配網(wǎng)絡技術

AE XSTREAM RPS 特點

1. 固態(tài)板載的主動匹配網(wǎng)絡

2. 全集成的高效400kHz電源

3. 可選虛擬前面板（VFP）的直觀實時軟件用戶界面

4. 低水耗

5. 硬質陽極氧化處理、低顆粒的耐腐蝕金屬源腔室

6. 檢測等離子體實際供電的高級監(jiān)測電路

7. 讀回信號用于系統(tǒng)集成和監(jiān)控