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吸附劑粒子表面有一層氧化膜需通過加熱活化，活化過程必須在真空或惰性氣體環境下完成。這樣可允許氦氣在其間自由擴散，防止氧氣鈍化層的形成。又可以進行雜氣的吸附。HP2，NP2的吸附劑材料具有良好的熱穩定性，包括兩個溫度控制范圍。
產品簡介
詳細介紹
色譜/光譜配套產品/氣相色譜類/氣體純化器
儀器簡介
載氣的純化在靈敏度要求高的地方是一種*的手段，例如在氣相色譜中，即使有低于PPB級的不純氣體也會影響檢測器的靈敏度，損壞毛細柱。Valco生產的氦氣純化器（HP2）和氮氣純化器（NP2）可以將氦氣及其他惰性氣體中的PPM級以下的不純氣體純化，為各種需要氦氣及其他惰性氣體的系統提高純氣，如HP Atomic Emissions檢測器，Valco Pulse Discharge Helium Ionization檢測器。
Valco 氣體純化器的純化基質是一種無揮發性的吸附性合金，熔合性好，穩定性高，可以安全簡單地使用。
吸附劑粒子表面有一層氧化膜需通過加熱活化，活化過程必須在真空或惰性氣體環境下完成。這樣可允許氦氣在其間自由擴散，防止氧氣鈍化層的形成。又可以進行雜氣的吸附。HP2，NP2的吸附劑材料具有良好的熱穩定性，包括兩個溫度控制范圍。
色譜/光譜配套產品/氣相色譜類/氣體純化器
儀器規格
規格 | 氦氣純化器貨號 | 氮氣純化器貨號 |
110VAC | HP-2 | NP2 |
230VAC | HP2-220 | NP2-220 |
純化芯 | I-23572HP2 | I-23572NP |
儀器技術指標
| 氦氣純化器 | 氮氣純化器 |
純化氣體 | He, Ar, Ne, Kr, Xe, Rn | 只純化N2 |
zui大操作壓力 | 1000 psig |
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不純氣去除 | 輸入氣雜質濃度在10ppm | 輸入氣雜質濃度在10ppm |
不被去除的 | He, Ar, Ne, Kr, Xe, Rn | He, Ar, Ne, Kr, Xe, Rn |