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VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
  • VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
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貨物所在地:遼寧沈陽市

更新時間:2025-02-17 13:13:39

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VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是研制開發的鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備。

 

產品型號

  VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

主要特點

  1配置兩個靶槍,一個為配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,一個為配套直流電源用于導電類材料的濺     射鍍膜。

  2、可制備多種薄膜,應用廣泛。

  3、體積小,操作簡便。

技術參數

  1電源電壓:220V   50Hz

  2、總功率:2KW

  3、極限真空度:< ?E-6mbar(配合本公司設備使用可達到?E-5mbar

  4、工作溫度:室溫-500℃,精度±1可根據實際需要提升溫度

  5、靶槍數量:2個(可選配其他數量)

  6、靶槍冷卻方式:水冷

  7靶材尺寸:Φ2”,厚度0.1-5mm(因靶材材質不同厚度有所不同)

  8、直流濺射功率:500W可選

  9、射頻濺射功率:300W/500W(可選

  10、載樣臺:Φ140mm

  11、載樣臺轉速:1-20rpm內可調

  12、保護氣體:ArN2等惰性氣體

  13、進氣氣路:質量流量計控制2路進氣,每個流量為100SCCM

產品規格

  主機尺寸:500mm×560mm×660mm整機尺寸:1300mm×660mm×1200mm;重量:160kg

標準配件

1

  直流電源控制系統

1

2

  射頻電源控制系統

1

3

  膜厚監測儀系統

1

4

  分子泵德國進口

1

5

  冷水機

1

6

  冷卻水管(Φ6mm

4

7

  靶材(不銹鋼靶、陶瓷靶)

1

可選配件

  金、銦、銀、白金等各種靶材

 

 

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