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目錄:沈陽科晶自動化設備有限公司>>真空鍍膜機>>磁控濺射鍍膜>> VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

  • VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
參考價 面議
具體成交價以合同協議為準
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具體成交價以合同協議為準
  • 品牌 其他品牌
  • 型號
  • 廠商性質 生產商
  • 所在地 沈陽市
屬性

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更新時間:2025-07-16 10:47:49瀏覽次數:2767評價

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產地類別 國產 價格區間 面議
應用領域 地礦
VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。配備有兩個靶槍,一個弱磁靶用于非導電材料的濺射鍍膜,一個強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,且具有體積小便于操作的優點,且可使用的材料范圍廣
產品簡介VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍和兩個電源,一個射頻電源用于非導電材料的濺射鍍膜,一個直流電源用于導電材料的濺射鍍膜,可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,且具有體積小便于操作的優點,且可使用的材料范圍廣,是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設備。

主要特點VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
  • 配置兩個靶槍,一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,一個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。

  • 可制備多種薄膜,應用廣泛。

  • 體積小,操作簡便。

技術參數VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

產品名稱

VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

產品型號

VTC-600-2HD

安裝條件

1、工作臺需要:尺寸 L1300mm×W750mm×H700mm,承重 200kg 以上。

2、水:需求:隨機標配 KJ-5000 自循環冷水機(加注純凈水或者去離子水)。

3、氣:需氬氣(純度≥99.99%),自備氬氣瓶(自帶?6mm 雙卡套接頭)及減壓閥。

4、通風裝置:使用現場需通風(必要時可自行加裝換氣裝置)。

5、供電源:單相:AC220V 50Hz 國標 10A 插座,必須有良好接地,前端需加裝 16A 空氣開關。

6、現場環境:要求:溫度 25℃±15℃,濕度 55%Rh±10%Rh 以下,干燥無塵,無易燃易爆氣體。

主要參數

真空室尺寸

φ295×高265mm

備注說明

真空泵組

分子泵:Hipace80 渦輪泵

前級泵:MVP015-2DC 隔膜泵

浦發(Pfeiffer)

本底真空度

5.0E-3Pa(5.0E-5hPa)

沉積前基礎真空要求

極限真空度

5.0E-4Pa(5.0E-6hPa)

受現場環境等因素影響

工作壓力

0.1~5Pa(0.001~0.05hPa)

氬氣為主,反應氣體比例添加

抽速

前級泵:1m3/h

分子泵:67l/s

影響抽真空時間

濺射電源

類型/數量

DC(直流):1臺

RF(射頻):1臺

DC:金屬靶 RF:絕緣靶

(搭配電源類型可選配)

輸出功率

范圍

DC:0~500W

RF:0~300W

功率輸出模式

MAX輸出功率

匹配阻抗

50Ω

確保功率傳輸效率

工作氣體

標配:氬氣(Ar)

建議使用:Ar 純度 99.999%

氬氣流量

(2路輸入)

1路:1~100sccm

1路:1~200sccm

注:如需要通入其它類型保

護氣體可定制

流量計精度

±1%F.S.

/

樣品臺尺寸

Φ132mm

≈5.2英寸

樣品臺轉速

1~20rpm

提升膜厚均勻性

加熱溫度

RT~500℃

樣品臺表面溫度值

控溫精度

±1℃

/

磁控靶數量

2個

可獨立、可同時使用

靶材尺寸

φ2寸 厚度0.1-5mm

靶材材質不同厚度有所不同

靶基距

85~115mm可調

當距離↑增大、→厚膜均勻

性↑增高,沉積速率↓下降。

冷卻方式

水冷

冷卻水循環靶頭降溫

厚膜均勻性

±5%(φ100mm基片)

靶基距和轉速優化關鍵

極限膜厚

10nm~10um

過厚易應力開裂

輸入功率

MAX:主機 500W/射頻電源 1100W/直流電源 750W

注:主機、射頻電源、直流電

源及膜厚儀均為獨立供電!

輸入電源

單相:AC220V 50/60Hz

主機尺寸

600mm×750mm×900mm

注:開蓋高度為1050mm

整機尺寸

1300m×750mm×900mm

注:開蓋高度為1050mm

整機重量

160kg

注:不含水冷機組

標準配件VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
序號名稱數量圖片鏈接
1直流電源控制系統1套-
2射頻電源控制系統1套-
3膜厚監測儀系統1套-
4分子泵(德國進口或者國產更大抽速)1臺-
5冷水機1臺-
6聚酯PU管(?6mm)4m-
可選配件VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
序號名稱功能類別圖片鏈接
1金、銦、銀、鉑等各種靶材(可選)VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀-
2可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜(可選)-
3雙層旋轉鍍膜夾具(可選)VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀


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