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| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,制藥/生物制藥 |
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| 產(chǎn)品類型 | 旗艦型 | 最大樣品尺寸 | 230×230×15mm |
| 最大直寫面積 | 195mm?x?195mm | 曝光光源 | 385?nm?LED?適用于SU-8 |
| 直寫分辨率 | 0.6μm,?1μm,?2μm,?5μm | 直寫速度 | 25平方毫米/min?@?0.6μm |
| 多層套刻精度 | ±0.5μm | 最小柵格精度 | 100nm |
| 樣品臺最小步長 | 50nm | 光學(xué)輪廓Z分辨率 | 100nm |
產(chǎn)品簡介
詳細(xì)介紹
傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業(yè)供應(yīng)商提供，但是在研發(fā)環(huán)境中，掩膜板的設(shè)計(jì)通常需要經(jīng)常改變。無掩膜光刻技術(shù)通過以軟件設(shè)計(jì)電子掩膜板的方法，克服了這一問題。與通過物理掩膜板進(jìn)行光照的傳統(tǒng)工藝不同，激光直寫是通過電腦控制一系列激光脈沖的開關(guān)，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。
MicroWriter ML3 是一款多功能激光直寫光刻系統(tǒng)，具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊(70cm x 70cm x 70cm)，無掩膜直寫系統(tǒng)的靈活性，還擁有高直寫速度，高分辨率的特點(diǎn)。采用集成化設(shè)計(jì)，全自動控制，可靠性高，操作簡便。適用于各種實(shí)驗(yàn)室桌面。
小型臺式無掩膜光刻機(jī)應(yīng)用領(lǐng)域
小型臺式無掩膜光刻系統(tǒng)是英國Durham Magneto Optics公司專為實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)開發(fā)，為微流控、SAW、半導(dǎo)體、自旋電子學(xué)等研究領(lǐng)域提供方便高效的微加工方案。
MicroWriter小型臺式無掩膜光刻機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn)
| Focus Lock自動對焦功能
| 直寫前預(yù)檢查
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| 標(biāo)記物自動識別 點(diǎn)擊“Bulls-Eye”按鈕，系統(tǒng)自動在顯微鏡圖像中識別光刻標(biāo)記。標(biāo)記物被識別后，將自動將其移動到顯微鏡中心位置。
| 光學(xué)輪廓儀 MicroWriter ML3 配備光學(xué)輪廓探測工具，用于勻膠后沉積層，蝕刻層，MEMS等前道結(jié)構(gòu)的形貌探測與套刻。Z向最高精度100 nm，方便快捷。
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| 簡單的直寫軟件 MicroWriter 由一個(gè)簡單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會引導(dǎo)使用者進(jìn)行簡單的布局設(shè)計(jì)、基片對準(zhǔn)和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運(yùn)行。
| Clewin 掩模圖形設(shè)計(jì)軟件 + 可以讀取多種圖形設(shè)計(jì)文件 （DXF, CIF, GDSII, 等） + 可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式 + 書寫范圍只由基片尺寸決定
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0.4 μm特征線寬曝光結(jié)果
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直寫分辨率1μm
直寫分辨率0.6μm
灰度直寫
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微結(jié)構(gòu)/微器件/微電極制備
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