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BX53M/MX63(L)-顯微鏡
  • BX53M/MX63(L)-顯微鏡
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貨物所在地:江蘇蘇州市

更新時間:2025-03-14 11:25:46

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奧林巴斯顯微鏡系列采用了模塊化設計,為廣泛的材料學和工業應用提供了多樣化的解決方案。BX3M改進了與奧林巴斯Stream軟件的集成性,從而為常規顯微鏡檢查和數碼成像用戶提供了從觀察到報告創建的無縫工作流程。特點模塊化可定制。

用于材料學的配置:

  1. BX53M反射和反射/透射觀察BX53M IR觀察BX3M系列有兩種顯微鏡機架,一種僅用于反射光,一種用于反射光和透射光組合。兩種機架都可配置手動、編碼或電動部件,并且都配備有ESD防靜電功能。

  2. BX53M IR觀察BX3M系列有兩種顯微鏡機架,一種僅用于反射光,一種用于反射光和透射光組合。兩種機架都可配置手動、編碼或電動部件,并且都配備有ESD防靜電功能。IR物鏡可用于透過硅材料成像,進行半導體檢查和測量。配備了5倍到100倍紅外(IR)物鏡,提供了從可見光波長到近紅外的像差校正。對于高放大倍率的物鏡,配備了LCPLN-IR系列帶校正環的物鏡,校正由樣品厚度導致的像差。使用一個物鏡即可獲取清晰的圖像

  3. BX53M偏光顯微鏡具有鮮明的偏光成像,是地質學家的理想之選。比如礦物鑒定、晶體光學特性的分析和巖石薄片的鑒定等各種研究,都得益于穩定的顯微鏡系統性和精密的光學系統。


MX63和MX63L顯微鏡系統支持檢測尺寸達300毫米的晶圓、平板顯示器、印刷電路板以及其他樣品的質量。這些符合人體工學設計的人性化系統采用模塊化設計,可在各種應用中實現理想的觀察條件。結合奧林巴斯Stream圖像分析軟件使用時,從觀察到生成報告的整個檢測流程更簡潔直觀。

滿足電子行業需求

應用反射光顯微鏡在很多應用和行業中普遍應用。以下是采用不同的觀察方法所達到的一些效果示例。

暗場/MIX  熒光/MIX  投射/MIX  微分干涉  偏光 紅外(IR)


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