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1.GVC-2000磁控離子濺射儀基本無溫升、樣品表面無熱損失
GVC-2000制樣效果圖 其他制樣設備效果圖
上面兩張圖片為濾膜類樣品的電鏡圖片，左側圖片為GVC-2000噴金后的電鏡觀測圖，可以看出，樣品形貌真實完整，右側圖片為其他設備噴金后的電鏡觀測圖片，可以看出，熱損傷嚴重，幾乎無法識別為同種樣品。
濺射儀顆粒更小，更適宜于高倍圖像觀測，適配場發射/高分辨場發射電鏡。
金顆粒尺寸：6~10nm
陶瓷膜，鍍層材料Pt，10萬倍圖片，無顆粒感 濾膜材料，鍍層材料Pt，20萬倍圖片，無顆粒感
技術參數
靶材尺寸： 57mm
樣品臺尺寸： 65mm
樣品倉尺寸： 130×120mm
GVC-2000磁控離子濺射儀特點：
1、儀器采用微處理器控制，自動化程度高精確控制、易于操作；
2、靶材利用率更高，磁控濺射靶材利用率為直流濺射的2倍,為用戶節約靶材費用；
3、金膜顆粒絕大多數＜10nm，顆粒更細，均勻度更好，附著力更強，觀測效果更佳；
4、低電壓、較好真空度下的實現大電流濺射，可濺射金、銀、銅、鉑等常用金屬靶材；
5、電子和負離子被磁場束縛在靶材附近，鍍膜過程中基本沒有溫升，適用溫度敏感性樣品；
6、內置用戶使用向導和說明書，方便用戶 操作；內置膜厚估算公式，便于用戶了 解離子濺射儀工作狀態；
7、采用微處理器控制，擴展性能好，可實時顯示真空度、濺射電流、濺射時間、設備運行時間、靶材使用時間等，方便了解設備情況，具備過流、真空保護功能，安全可靠。
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