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更新時間：2025-06-18 15:46:07

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產品簡介詳細介紹

GVC-1000射頻磁控濺射鍍膜儀主要適用于掃描電鏡鍍覆導電膜，儀器操作簡單方便，是樣品制備所必要的儀器。適用的靶材：金、鉑、金鈀合金、銀、鉛、銅、鉻、銻等！

　　GVC-1000射頻磁控濺射鍍膜儀（全自動離子濺射儀）主要適用于掃描電鏡鍍覆導電膜，儀器操作簡單方便，是樣品制備所必要的儀器。適用的靶材：金、鉑、金鈀合金、銀、鉛、銅、鉻、銻等！

　　描述

　　1、離子濺射儀工作原理：磁控濺射；

　　2、可選靶材：金，鉑，金鈀合金，鉛，銀，銅，鉻，銻等；

　　3、真空室：φ128×100高硅硼玻璃；

　　4、全自動操作，簡單易用，非常適用鎢燈絲、臺式掃描電鏡等；

　　濺射電流自動調整—設定濺射電流后，系統自動調節真空度，從而達到設定的濺射電流，調整時間＜5s，波動范圍＜±5%；

　　5、無需按“實驗”鍵調整濺射電流、無需操作“進氣閥”：

　　（1）濺射時間自動記憶——同類樣品一次設定即可；

　　（2）參數改變自動調整——濺射過程中可以隨時調整濺射電流和濺射時長，系統自動計算疊加，無需終止濺射過程；

　　（3）工作完成自動放氣；

　　（4）樣品臺高度調節1秒完成；

　　（5）濺射過程可以利用曲線顯示，清晰直觀；

　　（6）極限真空：小于1Pa；

　　6、軟硬件互鎖，防誤操作，安全可靠：

　　（1）真空度高于100Pa，啟動真空保護，無法濺射；

　　（2）濺射電流高于50mA，停止濺射過程；

　　（3）真空泵工作時，系統無法進行放氣操作；

　　7、GVC-1000射頻磁控濺射鍍膜儀鍍層均勻，導電性良好。

射頻磁控濺射鍍膜儀

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