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GVC-2000T高真空磁控離子濺射儀是一款容易操控的磁控離子濺射儀，為自動(dòng)化技術(shù)鍍膜機(jī)給予市面上最好使用價(jià)值的商品。它被用于非導(dǎo)電性樣品的預(yù)備處理商品，以提升三維成像屏幕分辨率，樣品導(dǎo)電率，電子電荷降低并減少對比較敏感樣品的光線損害。

高真空磁控離子濺射儀

GVC-2000T高真空磁控離子濺射儀是一款容易操控的磁控離子濺射儀，為自動(dòng)化技術(shù)鍍膜機(jī)給予市面上最好使用價(jià)值的商品。它被用于非導(dǎo)電性樣品的預(yù)備處理商品，以提升三維成像屏幕分辨率，樣品導(dǎo)電率，電子電荷降低并減少對比較敏感樣品的光線損害。

一、描述

1、全自動(dòng)知識產(chǎn)品；

2、沒有熱損傷，效率更高，顆粒度更細(xì)，更適合高分辨電鏡。

二、基本原理

將導(dǎo)電性原材料（如Pt-Pd，Pt，Au和Pd）涂敷到樣品表面上的設(shè)備。除此之外，非導(dǎo)電性樣品用以在透射電鏡下開展數(shù)據(jù)可視化，及其維護(hù)樣品表面免遭引入離子束的危害并幫助電子器件流動(dòng)性。他們乃至可以作為塑料薄膜型電級的產(chǎn)生。

三、應(yīng)用領(lǐng)域

1、高分辨掃描電鏡樣品制備（實(shí)際放大倍數(shù)≥100K）；

2、電極制備-可制備各種金屬電極、ITO電極。

四、設(shè)備配置與技術(shù)參數(shù)

型號&名稱	GVC-2000T高真空磁控離子濺射儀
真空系統(tǒng)	渦輪分子泵（進(jìn)口）：德國萊寶90i （單磁懸浮分子泵，抽速為90L/s）旋片式真空泵：浙江飛越VRD-4 （抽速為 1 .1L/s）
真空測量	全量程復(fù)合真空規(guī)（進(jìn)口）：1.0E5Pa-1E-4Pa
系統(tǒng)極限真空	≤5E-3Pa
濺射電源	磁控濺射電源,功率150W
可用靶材	所有金屬靶材，ITO靶材
濺射電壓	300-600V,根據(jù)選擇靶材、控制參數(shù)不同而變化
濺射電流	0-200mA連續(xù)可調(diào),步長5mA
濺射時(shí)間	0-9999s, 連續(xù)可調(diào)步長1s
操作界面	7英寸TFT彩色液晶觸摸屏,分辨率800×480
操作方式	一鍵操作
抽氣節(jié)拍	＜15分鐘
控制方式	只需設(shè)定濺射電流和時(shí)間即可，全自動(dòng)控制具備預(yù)濺射擋板（預(yù)濺射時(shí)間可設(shè)定),全自動(dòng)控制
保護(hù)功能	軟硬件互鎖、防止誤操作，具備電流、真空保護(hù)等
樣品臺直徑	φ125mm，可自轉(zhuǎn)，可自動(dòng)手動(dòng)控制，轉(zhuǎn)速4-40rpm可調(diào)
真空室	高硅硼玻璃，規(guī)格尺寸約φ200×130mm
電源供電	220V 50Hz 功率800W
尺寸&重量	重量 424（長) ×345（深) ×420mm（高）、 25 kg （凈重)
冷卻方式	內(nèi)部風(fēng)冷
選配	樣品臺選擇、膜厚控制、溫度監(jiān)測等