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目錄:北京格微儀器有限公司>>高真空離子濺射>> GVC-2000TD高真空磁控離子濺射儀

高真空磁控離子濺射儀
  • 高真空磁控離子濺射儀
參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 GVC-2000TD
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 北京市
屬性

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>

更新時間:2025-01-02 18:02:53瀏覽次數(shù):1753評價

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產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 面議
應(yīng)用領(lǐng)域 電子/電池,鋼鐵/金屬,綜合
GVC-2000TD高真空磁控離子濺射儀可制備各種金屬、單質(zhì)、無機非金屬薄膜;不破真空情況下,可實現(xiàn)多層復(fù)合膜制備。

高真空磁控離子濺射儀


       一、GVC-2000TD高真空磁控離子濺射儀產(chǎn)品優(yōu)勢:

  1、可制備各種金屬、單質(zhì)、無機非金屬薄膜;
  2、不破真空情況下,可實現(xiàn)多層復(fù)合膜制備;
  3、一鍵操作,全自動控制,智能化程度高;
  4、一致性、重復(fù)性好;
  5、內(nèi)置多重靶材工作參數(shù),無需摸索鍍膜工藝;
  6、體積小,結(jié)構(gòu)緊湊,非常節(jié)約空間。

  二、GVC-2000TD高真空磁控離子濺射儀產(chǎn)品參數(shù):
外形尺寸(主機) 424(L)×345(D)×420(H) 輸入電源 220V/50Hz    1000W
濺射靶頭 1 直流磁控濺射 可用靶材 金屬靶材
濺射靶頭 2 射頻磁控濺射 可用靶材 無機非金屬靶材
真空系統(tǒng) 渦輪分子泵+旋片式真空泵 抽速 90L/s + 1.1L/s
真空測量 復(fù)合式真空規(guī) 量程范圍 1E-3 ~ 1E5Pa
真空室 φ 200×130mm 高硼硅玻璃 抽氣節(jié)拍 10 分鐘(≤5E-3Pa
樣品臺尺寸 φ 90mm 樣品臺切換 自動控制
濺射靶材尺寸 φ 57mm(厚度 0.1-2mm 工作真空 0.1-2Pa
操作界面 7 英寸 TFT 觸摸式液晶屏 操作語言 中文(可選其它語言)
冷水機 小型臺式制冷機 冷水機功率 180W
預(yù)濺射擋板 標配全自動控制預(yù)濺射擋板
膜厚儀(選配) 可實時顯示鍍膜厚度,并通過設(shè)定來控制鍍膜過程,測量精度 0.01nm,設(shè)定精度 0.1nm,單次設(shè)定范圍 1-999nm
溫控組件(選配) 樣品臺加熱模塊 300/500
旋轉(zhuǎn)組件(選配) 傾斜旋轉(zhuǎn)、行星旋轉(zhuǎn)等
小車(選配) 將主機、射頻電源、冷水機等組裝在一起,整體性好
安裝環(huán)境 220V/10A 三孔插座一個、純度 4N 及以上的高純氬氣(出口壓力 0.12MPa

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